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三、光学薄膜(真空)制备工艺 一、真空系统及测量 二、蒸发技术 三、控制系统 四、辅助系统 五、薄膜材料 六、光学薄膜的依附体——基板 七、薄膜的检测 六、光学上常用的基板 一)、玻璃 2、有色玻璃 有色玻璃和镀膜在曲线上的区别 3、普通玻璃 4、特殊玻璃 二)、光学塑料 1、光学塑料的应用 2、 常见的光学塑料 3、光学塑料的类型 4、光学塑料的优势 5、光学塑料的缺点 三)、光学晶体 晶体的基本性质 晶体的几个重要的物理性质 光学晶体按用途分的类型 离子辅助IAD IAD技术是在电子束蒸发的同时用离子束轰击,离子由离子源产生,离子束由栅极引出,电子枪和离子源各自独立工作。膜层在离子的轰击作用下获得能量,使结构得到改善。 反应离子镀(RIP) RIP是个混合蒸发的过程:在电子枪蒸发的同时,等离子体发生源灯丝与电子枪蒸发材料的坩埚之间产生放电,被引入的反应气体与蒸发材料都被部分电离为等离子体,并在电场中被加速,在气体放电中离子与离子、离子与电子发生碰撞并反应,在荷能粒子的轰击下薄膜凝结基底表面。 三、控制系统 1、时间 2、颜色 3、光学控制 4、石英晶体震荡控制 光学膜厚监控系统 石英晶体法监控膜厚 主要是利用了石英晶体的两个效应,即压电效应和质量负荷效应。 石英晶体的压电效应的固有频率不仅取决于其几何尺寸、切割类型,而且还取决于晶片的厚度。当晶片上镀了某种膜层,使晶片的厚度增大,则晶片的固有频率会相应的衰减。石英晶体的这个效应是质量负荷效应。石英晶体膜厚监控仪就是通过测量频率或与频率有关的量进行膜厚测量的。 四、辅助系统 加温——————温度测量与控制 充气——————真空度测量与压强控制 工件架——————公、自转,均匀性调整 离子轰击——————直流与射频 比较片架——————透射、反射、内反射 五、薄膜材料 透明区 折射率 强度 激光阈值 蒸发方法 1、金属材料:铝、铬、银、金等 2、介质和半导体材料 冰晶石、氟化镁、硫化锌、二氧化钛、二氧化锆、二氧化硅; 锗、硅、硒化锌; 根据薄膜设计的结果,有些设计出来的折射率在现实中没有对应的材料,怎么办?可利用现有的材料合成所需要的折射率。 这种新折射率具有明显的色散性。 一)、玻璃----在光学应用上最重要 二)、陶瓷 三)、光学晶体 四)、光学塑料(如PC、PMMA等) 五)、金属 玻璃可以分为: 1、无色光学玻璃 2、有色光学玻璃 3、普通玻璃 4、特殊玻璃 等 1、无色光学玻璃的分类 根据化学成分,无色光学玻璃可以分为两类。 (1)、冕牌玻璃----带K的玻璃,折射率n较小,色散系数大,可分为氟冕(FK)、磷冕(PK)、轻冕(QK)、钡冕(BaK)、重冕(ZK)、镧冕(LaK)、特冕(TK)等; (2)、火石玻璃----带F的玻璃,折射率n较大。色散系数大,可分为冕火石(KF)、轻火石(QF)、钡火石(BaF)、重火石(ZF)、镧火石(LaF)等。 共有160多种之多。 1、nd----指587.7nm(氦黄线)处的折射率; 2、nD----指589.3nm(钠黄线)处的折射率; 3、相对色散(阿贝数) vd 、vD ----由nf(486.1nm)和nc(656.3nm)确定: vd= (nd -1)/(nf -nc) vD= (nD-1)/(nf - nc) 无色光学玻璃一些技术指标 无色光学玻璃的分级 玻璃按下列各项质量指标分类和分级。 a、折射率、色散系数与标准数值的允许差值; b、同一比中,折射率及色散系数的一致性; c、光学均匀性; d、应力双折射; e、条纹度; f、气泡度; g、光吸收系数; h、耐辐射性能(N系列玻璃)。 根据折射率与标准数值的允许差值,玻璃分为6类。 类别 折射率nd允许差值 类别 折射率nd允许差值 00 ±2×10-4 2 ±7×10-4 0 ±3×10-4 3 ±10×10-4 1 ±5×10-4 4 ±20×10-4 玻璃的光学均匀性以一块玻璃中各部位间的折射率微差最大值Δ nmax表示时,按下表分为4类。 类别 折射率最大微差,Δnmax H1 ±2×10-6 H2 ±5×10-6 H3 ±1×10-5 H4 ±2×10-5 ? 它主要是滤光作用,有时候替代镀膜,有时候和薄膜组合。按照着色原理可以分为胶态着色和离子着色有色玻璃两类。通过加入不同的吸收离子,我们可以得到各种各样颜色的玻璃。 我们在用的蓝玻璃就是一种有色玻璃,HOYA叫CM5000,肖特叫BG38、BG39等,国际、国内均有一些专业的有色玻璃生产商。 如青板玻璃,是由于加了0.08~0.12%的氧化铁的缘故;二价、三价铁分别在1100nm和380nm处构成吸收带,吸收了部分红光
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