锗窗口双面磨抛工艺的研究资料.pptVIP

锗窗口双面磨抛工艺的研究红外特种光学技术公司超精密双面磨抛QC小组 概述 目前，我国超精密加工研究与应用水平还落后于工业技术发达国家，对平面零件而言，多数工厂只能完成手工研磨加工及少量产品的单面逐面抛光加工，尚存在工件加工表面平整度差、加工效率低等诸多问题。在红外光学领域，对于红外光学系统中常用的平面锗窗口，国内一般只能进行零件的单面逐面抛光，同样存在加工效率低、表面质量和平整度差等问题。随着我们公司规模和市场的不断扩大，产品订单越来越多，生产周期越来越短，现有的古典逐面加工法已不能满足市场需求。为了进一步提高红外锗窗口的加工效率，增强公司国际竞争力，公司提出了用双面研磨和抛光的方法加工红外锗窗口的思路，并于2006年先后购进兰州瑞德设备制造有限公司X61 1112B型双面研磨设备1台和X62 1112B型双面抛光设备2台。此设备的主要特点是加工时间短、速度快、质量好、效率高以及加工一致性好，可进行产品的批量生产。由于双面研磨抛光是新设备、新技术、新工艺，我们公司并没有可直接借鉴的工艺，为此，在公司领导的大力支持和关心下，我们成立了双面磨抛工艺研究创新型QC小组，对锗窗口的双面研磨和双面抛光工艺进行专题性工艺技术创新研究。 * 小组概况  小组名称 双面磨抛QC小组 类 型 创新型 课题名称 锗窗口双面磨抛工艺的研究 成立时间 2006-02 本次活动时间 2006-08 ~ 2007-08 注册号 小组成员简介 序号 姓名 职务 职称 组内分工 1 肖建国 组长 工程师 技术指导 2 卿德友 组员 工艺实验 3 乔海红 组员 工艺实验 产品需要 根据产品订货的技术指标要求，零件平行度15，光圈N=2，△N=0.5,表面光洁度∨级。 公司要求 公司目前对锗加工已经成熟，而对于锗窗口的超精密双面磨抛工艺技术还未涉及，为拓展我公司科研和生产的方向，提高竞争能力，必须进行研究。 本部门职责 本部门为光学零件及双面磨抛工艺的编制和加工、为公司解决技术难题是本部门工艺技术人员义不容辞的职责和义务。 确定课题 锗窗口双面磨抛工艺研究 选题理由 注： 计划进度 实际进度 总结与今后打算 标准化 A 确认效果 C 按对策表实施 D 制定对策表 提出各种方案 确定最佳方案 设定目标 选择课题 P 7 6 5 4 3 2 1 12 11 10 9 8 2006年 2007年 时间 项目 阶段 8 活动计划 目 标 可 性 行 分 析 组织保证 技术保证 工作经验 公司和部门领导对双面磨抛工艺研究工作极为重视、关心和支持。 小组成员中有1名从事超精密加工工作十多年的工程师和2名学习冷加工专业且从事抛光工作两年以上的组员。 小组成员从事锗窗口双面磨抛工艺的设计和生产，多次组织进行技术攻关和工艺方案改进，对新材料、新工艺、新技术和新设备的了解和应用能力很强。 目 标 可 以 实 现 b) 目标可行性分析 a) 确定目标 成功研制锗窗口双面磨抛工艺，光圈N≤3道,表面疵病B=Ⅴ级，平行度≤15 。 . 提出各种方案并确定最佳方案 双面磨抛工艺的难点在于抛光。由于锗材料较软，莫氏硬度为6.0，表面很容易产生道子，所以红外锗窗口双面磨抛技术的关键是如何获得较高的表面质量，其次是获得高质量的平面度和平行度。工作中，我们选用 ? 35.56X2.0 mm 锗片250件在兰州瑞德设备制造有限公司X61 1112B型双面研磨和X62 1112B型双面抛光设备上进行工艺实验。 方案一：用粒度为1.0 μm 的 A抛光粉 和某抛光布作为抛光辅料 将抛光布粘贴在抛光盘上，抛光粉和水按一定比例混合并加入化学试剂以调节抛光液的PH值，工艺流程如下： 开始 清洗零件 清洗设备 清洗夹具 粘贴抛光布 修抛光布 上盘 编程 专检 自检 双面抛光 不合格 方案二：用粒度为0.5 μ m的B抛光粉和某抛光布作为抛光辅料 将抛光布粘贴在抛光盘上，抛光粉和水按一定比例混合并加入化学试剂以调节抛光液的PH值，特别注意的是要保证水的纯净和抛光液的颗粒能够均匀的分布在抛光液里，工艺流程如下： 开始 清洗零件 清洗设备 清洗夹具 粘贴抛光布 修抛光布 上盘 编程 专检 自检 双面抛光 不合格 方案号 优点 缺点 1 1、 加工周期短。 2、 速度快。 3、 加工后的零件平行度可以达到图