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深圳鼎瑄通讯科技有限公司 一、深圳鼎瑄通讯科技有限公司　　　　 －－－真空镀制作工艺介绍 大纲： 一、真空镀制作工艺简介： 深圳市鼎瑄通讯科技真空镀膜之应用 本公司的真空镀制程优点 薄膜沈积的两种常见的制程 PVD真空镀膜种类及原理简介 真空镀膜技术制程简介 各制程步骤应注意的事项 二、喷涂制作工艺简介： 深圳市鼎瑄通讯科技喷涂之应用 本公司的喷涂制程优点 喷涂制程工艺流程介绍 喷涂涂料的种类及运用 各制程步骤应注意的事项 三、涂装各类问题与即时处理方向 喷涂外观问题图解 涂膜缺陷的因应对策 喷涂问题与实时处理方向之鱼骨图 深圳鼎瑄通讯科技有限公司　　　　－－－真空镀工艺之运用 本公司的真空镀制程优点 制程精密、质量稳定、金属质感强； 薄膜的密着性佳、附着力强、不易脱落、性能测试稳定； 薄膜不产生化学反应、无化学产物污染，属于符合TCO-99环保法规环保制程； 可连续式生产、生产速度快、颜色及外观效果佳； 针对3C产品之外壳－－曲面、2D、3D、拉丝、咬花等表面处理效果优良； 成本低与重量轻，生产弹性高，符合当前消费者选购趋势。 薄膜沈积的两种常见的制程 物理气相沈积—PVD（Physical Vapor Deposition） 化学气相沈积－CVD（Chemical Vapor Deposition） PVD镀膜处理方式可分