稀土化合物制备.pptVIP

1. 合成 2RECl3 + 3H2SiF6 → RE2(SiF6)3 + 6HCl RE2(SiF6)3+2NH4HCO3+2NH3·H2O → 2REFCO3↓+3SiF4↑+ 4NH4F+2H2O 2RECl3 +3NH4HCO3+3NH3·H2O → RE2(CO3)3+ 6NH4Cl+3H2O RE2(CO3)3 + H2O → 2RE(OH)CO3 + CO2↑ 2. 焙烧 REFCO3 → REOF + CO2↑? 2RE(OH)CO3 → RE2O3 + 2CO2↑ + H2O↑4Ce(OH)CO3 + O2 → 4CeO2 + 4CO2↑ + 2H2O? 6CeFCO3 + O2 → 4CeO2 + 2CeF3 + 6CO2↑ 氟碳铈精矿抛光粉的制备 用氟碳铈精矿制备抛光粉不需要合成步骤，直接焙烧即可，最后进行分级就可以得到抛光粉 REFCO3 → REOF + CO22REOF +H2O →RE2O3 + 2HF? REF3 + H2O → REOF + 2HF↑ RE2O3 + H3BO3 → CeO2 + LaBO3 + H2O↑ 用氟碳铈精矿制备抛光粉在国内为数不多，目前处在抛光眼镜片的初期使用阶段，主要是因为比放射性强度较高，但其成本较低，有较大的发展前途。 氧化铈抛光粉的制备 氧化铈抛光粉的制备，一般是先把铈溶液沉淀为草酸铈、碳酸铈或氢氧化铈，然后焙烧，最后经分级，得到氧化铈抛光粉，主要反应方程式如下： 2Ce3+ + 3H2C2O4 + nH2O → Ce2(C2O4)3·nH2O + 6H+ Ce2(C2O4)3·nH2O + 2O2 → 2CeO2 + 6CO2↑ + nH2O2Ce3+ + 3NH4HCO3 + nH2O → Ce2(CO3)3·nH2O + 3H+ + 3NH4? Ce2(CO3)3·nH2O + 1/2O2 → 2CeO2 + 3CO2↑ + nH2O 现在超细的氧化铈抛光粉主要用于精密光学仪器、激光晶体、半导体元件、液晶显示器和电脑光盘的抛光，已逐渐受到人们的重视，产量逐年提高。纳米级氧化铈抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但现在还处于研发阶段。 学习动物精神 11、机智应变的猴子：工作的流程有时往往是一成不变的，新人的优势在于不了解既有的做法，而能创造出新的创意与点子。一味 地接受工作的交付， 只能学到工作方法 的皮毛，能思考应 变的人，才会学到 方法的精髓。 学习动物精神 12、善解人意的海豚：常常问自己：我是主管该怎么办才能有助于更好的处理事情的方法。在工作上善解人意， 会减轻主管、共 事者的负担，也 让你更具人缘。 稀土化合物的制备 晶型稀土碳酸盐的制备 向稀土溶液中加入可溶性碳酸盐（铵、钠、钾等），就可得到组成为RE2(CO3)3·nH2O的稀土碳酸盐水合物沉淀。但沉淀往往是无定形的，其溶解度较草酸稀土和氢氧化稀土均小。 由于碳酸稀土的溶解度小，析出的沉淀常为无定型，使固液分离比较困难，且对杂质的分离选择性也较差，因此限制了碳铵沉淀剂的使用。所以必须研究晶形碳酸稀土的沉淀方法，才能使碳铵沉淀方法得到广泛的应用。 碳铵沉淀制备晶形碳酸稀土的方法。 在稀土溶液中加入碳铵后发生如下反应[4]： 2RE3+ + 3HCO3– → RE2(CO3)3 + 3H+ H+ + HCO3– → CO2↑ + H2O 上述两个反应方程式合并后总反应为 2RE3+ + 6HCO3– → RE2(CO3)3 + 3CO2↑ + 3H2O 由于Ksp值(即S值)的大小与沉淀颗粒的大小有关，对于颗粒细小的无定形沉淀对应一个稍大的Ksp值，平衡时溶液中RE3+与CO32-的离子积稍大于结晶状碳酸稀土的Ksp值，此时具备形成晶状碳酸稀土的热力学条件。 工业上沉淀碳酸稀土的工艺条件一般是：稀土溶液的浓度为40~100g/L，pH为2~3，沉淀温度为40~60℃，加入约10%的晶种，然后在搅拌下缓慢加入碳铵，其用量是稀土氧化物的1.5~1.6倍，至溶液的pH值为6~7，沉淀完全后，40~60℃陈化2~5小时，然后离心甩干、洗涤，可以得到ΣREO≥45%的碳酸稀土晶体，得到的碳酸稀土晶体是水合稀土碳酸盐。 沉淀过程中加入少量的消泡剂，可以加速碳酸稀土的结晶，利于晶体的生长，使碳酸稀土晶体排列变得有序，形状规则，颗粒粗大，包裹的杂质较少，易于过滤和洗涤，可以由氯化稀土溶液直接生产氯根含量为50~100ppm的低氯根碳酸稀土。 稀土氧化物及超细粉体的制备 随着科学技术的发展，作为新材料的原始材料的稀土氧化物得到了越来越广泛的应用