电子束蒸发Al2O3SiO2复合薄膜电学性能的研究.pdfVIP

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( ) 39 1 福州大学学报 自然科学版 Vol. 39 No. 1 第 卷第 期 2011 2 Journal of Fuzhou University (Natural Science Edition) Feb. 2011 年 月 【DOI 】CNKI :35 - 1117 / N. 1722 . 005 文章编号:1000 - 2243 (2011)01 - 0067 - 05 电子束蒸发Al O / SiO 复合薄膜电学性能的研究 2 3 2 , , , , 翁卫祥 贾贞 于光龙 李昱 郭太良 ( , 350108) 福州大学物理与信息工程学院 福建福州 : , Al O / SiO , 摘要 利用离子辅助电子束蒸发技术 在玻璃基底上以交替沉积的方式制备了 2 3 2 叠层复合薄膜 单 54 16 nm , 560 nm. / / 层介质膜膜厚分别选取 和 总厚度为 采用步进法测试得到金属电极 复合绝缘膜 金属电极 (MIM) I - V , CrCuCr / (Al O / SiO )/ CrCuCr , 80 nm / 560 nm / 80 结构的 特性曲线 具体成分为 2 3 2 8 相应的厚度为 - 1 nm , 2 . 7 MV ·cm , FED . 复合薄膜的平均击穿场强为 较好地满足 后栅结构中对介质膜耐压特性的要求 结合 ,Al O / SiO , 理论分析发现 2 3 2 复合薄膜在不同的场强条件下以某一种导通作为主要的导通机制 其低场强区服 , , , - F - N . 从准欧姆定律 随着场强升高 在不同的阶段分别以肖特基效应 普尔 弗兰凯尔效应和 效应为主 :Al O ;SiO ; ; ; ; 关键词 2 3 2 复合薄

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