有机合成中保护基.ppt

Protecting Groups in Organic Synthesis Nomenclature of Organic Compound-1 Nomenclature of Organic Compound-2 Nomenclature of Organic Compound-3 Abbreviation 1 Abbreviation 2 Abbreviation 3 Abbreviation 4 Abbreviation 5 Abbreviation 6 Abbreviation 7 选择保护基的原则： (1) 保护基的供应来源，包括经济程度。 (2) 保护基团必须能容易进行保护，且保护效率高。 (3) 保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂性，如保护中忌讳产生新的手性中心。 (4) 保护以后的化合物必须承受的起以后进行的反应和后处理过程。 (5) 保护基以后的化合物对分离、纯化、各种层析技术要稳定。 (6) 保护基团在高度专一的条件下能选择性、高效率地被除去。 (7) 去保护过程的副产物和产物能容易被分离。 呼之即来，挥之即去。 切莫请神容易，送神难。 羟基的保护基 1). 酯类保护基 t-BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH2CO et al. 90% 　　　　　　　　　　　　　Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453 酯类保护基的除去(cleavage) 碱性条件下水解， 水解能力： t-BuCO(Piv) PhCO MeCO ClCH2CO 常用的碱：K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al 去除Piv一般用较强的强碱体系，如 KOH/H2O, LiAlH4, DIBAL, KBHEt3 ClCH2CO的去除可以用硫脲，氨/甲醇，苯，吡啶水溶液，NH2CH2CH2SH, NH2CH2CH2NH2, PhNHCH2CH2NH2 等除去。 2). 硅醚保护基 硅醚保护基主要有： Me3Si (trimethylsilyl, TMS); Et3Si (triethylsilyl, TES); t-BuMe2Si (tert-butyldimethylsilyl, TBDMS or TBS) i-Pr3Si (triisopropylsilyl, TIPS) t-BuPh2Si (tert-butyldiphenylsilyl, TBDPS) 酸水解相对稳定性: TMS(1) TES(64) TBDMS(20,000) TIPS(700,000) TBDPS (5,000,000) 碱水解相对稳定性: TMS(1) TES(50) TBDMS = TBDPS (20,000) TIPS(100,000) 硅醚保护基的除去： （F-Si 142 kcal/mol; O-Si 112 kcal/mol） 通常用 HF / CH3CN; TBAF / THF; HF.Py / CH3CN TMS ether：TMSCl or TMSOTf in pyridine, NEt3, i-Pr2NEt, imidazole, DBU TES ether：TESCl/Imid. DMAP; TESOTf / Py. or 2,6-dimethylpyridine TBDMS ether：TBDMSCl / imid. / DMF; TBDMSOTf / 2,6-dimethylpyridine TBDPS ether：BDPSCl / imid. / DMF, catalyst: DMAP, solvent: CH2Cl2 TIPS ether：TIPSCl / DMF / imidazole. Cleavage Cleavage Cleavage Cleavage 烷基醚类： Me (甲基醚) reagent: MeI; (MeO