三氯化铁蚀刻.pptVIP

三氯化铁蚀刻 * 概述： 在印制电路、电子和金属精饰等工业中广泛采用三氯化铁蚀刻铜、铜合金及铁、锌、铝等。这由于它的工艺稳定，操作方便，价格便宜。但是，近些年来，由于它再生困难，污染严重，废液处理困难等正在被淘汰。以氯化铜、过硫酸盐、过氧化氢—硫酸、氨碱以及其它刻蚀液替代。 三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、金等抗蚀层的印制板的蚀刻。但不适用于镍、锡、锡－铅合金等抗蚀层 * 蚀刻机理 FeCl3＋Cu →FeCl2＋CuCl FeCl3＋CuCl →FeCl2＋CuCl2 CuCl2＋Cu →2CuCl * 蚀刻铜箔的同时，还伴有一些副反应，就是CuCl2和FeCl3的水解反应: 生成的氢氧化物很不稳定，受热后易分解： 结果生成了红色的氧化铁和黑色的氧化铜微粒，悬浮于蚀刻液中，对抗蚀层有一定的破坏作用。 * Fe3+的消耗量与Fe3+及Cu2+溶铜量的关系 * 影响蚀刻速率的因素 Fe3+的浓度和蚀刻液的温度 刻液中加盐酸的添加量 蚀刻液的搅拌 * 其它蚀刻 硫酸－铬酸蚀刻 过硫酸铵蚀刻 硫酸－双氧水蚀刻 * * *