酸性光亮镀铜工艺和配方.docVIP

酸性光亮镀铜工艺及配方 一、酸性镀铜光亮剂特点： 1、快速出光，特好的填平度，即使低电流密度区也可得到极高的填平度。 2、广泛的电流密度范围均可得到镜面亮度。 3、工作温度范围宽，18— xmlnamespace prefix =st1 ns =urn:schemas-microsoft-com:office:smarttags /40℃都可得到镜面亮度。 4、镀层内应力低，延展性好，电阻率低，可应用于各种不同的基体材料电镀。铁件、锌合金件、塑胶件等同样适用。 5、光亮剂对杂质容忍度高，性能稳定，易于控制。一般在使用一段长时间（约800-1000安培小时/升）后，才需用活性碳粉处理。 6、沉积速度快。在4.5安培/平方分米的电流密度下,每分钟可镀1微米的铜层,电镀时间因而缩短。 （酸性镀铜溶液是一种强酸性的简单盐电镀溶液，镀液中没有使用络合剂。 二、电镀工艺条件： 原料　 　 范围　　 标准 硫酸铜　　 200－240g/L　　 220 g/L 硫酸　　 55－75g/L　　 65 g/L 氯离子　　 15－70mg/L　　 2