掩膜板的制造分析.pptVIP

掩膜板的制造原理 投影掩膜版与掩膜版 投影掩膜版是一个石英版，它包含了要在硅片上重复生成的图形，这种图形可能仅包含一个管芯，也可能是几个。投影掩膜版指的是对于一个管芯或一组管芯的图形。 光刻掩膜版：它是一块石英版，包含了对于整个硅片来说确定一工艺层所需的完整管芯阵列。 掩膜版是的制造工艺是关系到集成电路的质量和集成度的重要工序。 投影掩膜版 铬 层 在准备好的石英玻璃片之后，在其上淀积一层铬，掩膜图形就是在铬膜上形成，在铬膜的下方还有一层由铬的氮化物或氧化物形成的薄膜，其作用是增加铬膜与石英玻璃之间的黏附力，在铬膜的上方需要有一层20nm厚的三氧化二铬抗反射层，这些薄膜是通过溅射方法制备的。 选择铬膜形成图形，是因为铬膜的淀积和刻蚀相对比较容易，而且对光线完全不透明。 掩膜版上图形制造 通常在掩膜版上形成图形的方法是使用电子束。这种技术利用直写把电子存储的原始图形绘制成版图。 电子束光刻：电子束光刻的直写方式把高分辨率的图形转印到投影掩膜版表面，在电子束光刻中电子源产生许多电子，这些电子被加速并聚焦成形射到投影掩膜版上。电子束可以通过磁方式或电方式被聚焦，并在涂有电子束胶的投影掩膜上扫描形成所需要的图形。电子束可以扫过整个掩膜版（光栅扫描），也可以只扫过要光刻的区域（矢量扫描）在投影掩膜上形成图形。 投影掩膜版的损伤