刻蚀工艺分析.pptVIP

光刻版制作 这一节简单介绍光刻版的制作过程。最初的光刻版是由涂上感光乳剂的玻璃板制成，但由于感光乳剂容易划伤，在使用中变质且不能分辩3μm以下的图形，现在最常用的感光版使用玻璃涂敷铬技术。制做过程如图所示。 最受欢迎的光刻版制作材料是硼硅酸盐玻璃或石英，它们有良好的尺寸稳定性和曝光波长的传输性能。 光刻/掩膜版制作工艺流程 刻蚀剖面 刻蚀偏差 刻蚀选择比 干法刻蚀原理 干法刻蚀机理 刻蚀工艺中容易出现的问题：过刻蚀、内切、选择性和侧边的各向异性/各向同性刻蚀。 不完全刻蚀 是指表面层刻蚀不 彻底，如图所示。 产生的原因：太短的刻蚀时间；薄厚 不均匀的待刻蚀层；过低的刻蚀温度。 干法刻蚀与湿法刻蚀相比的优点： 刻蚀剖面是各向异性，具有非常好的恻壁剖面控制； 好的CD控制； 最小的光刻胶脱落或黏附问题； 好的片内、片间、批次间的刻蚀均匀性； 较低的化学制品使用和处理费用。 等离子体 等离子体是一种中性、高能量、离子化的气体，包括中性原子或分子、带电离子和自由电子。当从中性原子中去除一个价电子时，形成正离子和自由电子。例如，当原子结构内的原子和电子数目相等时氟是中性的，当一个电子从它的核内分离出去后氟就离子化了（见下图）。在一个有限的工艺腔内，利用强直流或交流磁场或用某些电子源轰击气体原子都会