材料表面工程-第四讲摘要.pptVIP

* 一、气相沉积技术 金属有机化合物CVD (MOCVD) 质量流量计4个 反应室 H2Se AsH3 GaAs基片 排气 RF 线圈 托架 净化器 TMG TMA DEZ 石墨制成 H2 采用GaAs作为基片 不锈钢发泡器 高压气瓶 用氢气稀释至5~10% 用氢气稀释至几十~几百ppm 至废气回收装置 * 一、气相沉积技术 光化学CVD 利用光化学反应，使反应物吸收一定波长和能量的光子，促使其中的原子团和离子发生反应，生成化合物的CVD方法。 主要用于沉积SiO2、Si3N4以及多晶硅膜；生长M膜和Ga、Ge、Ti、W等元素的氧化物膜。 一、气相沉积技术 二、高能束表面处理 目 录 二、高能束表面处理 1.高能束表面改性概述 2.激光表面处理概述及其分类 3.电子束表面处理及热过程 4. 离子注入原理、装置及应用 * 1.高能束表面改性概述 高能束-激光束、电子束、离子束。 表面改性-获得与基体的组织、性能不同的材料表面。 高能束加热和冷却速度极高-微晶或非晶制备。 离子注入-把异类原子引入表面层-表面合金化。 * 二、高能束表面处理 2.激光表面处理概述及其分类 概述： 金属对激光的吸收——部分反射,部分吸收； 吸收能量——电子跃迁； 吸收率与波长、温度、金属表面自身性质有关； 激光与金属作用的类型：热作用、力作用、光作用。 * 二、高能束表面处理 分类： 不改变基材表面成分 * 二、高能束表面处理 * 改变基材表面成分 二、高能束表面处理 * 激光熔覆技术 二、高能束表面处理 * 激光熔覆材料的添加 预制涂层法：先涂覆、喷涂、电镀一层材料； 同步送料法：将材料直接送入激光熔池，多为粉末、线材。 二、高能束表面处理 激光熔覆技术特点 类似于喷焊或堆焊，与二者相比特点： (1) 稀释率低； (2)基材热变形最小； (3)熔覆层致密，结合强度高； (4)无污染，无辐射，低噪声，劳动条件好。 * 激光熔覆材料 自熔合金：镍基、铁基、钴基、铜基； 金属陶瓷符合粉末：合金与碳化物(WC、TiC、SiC等)； 陶瓷粉末：Al2O3、ZrO2等。 二、高能束表面处理 激光熔覆影响因素 激光功率、光斑直径、功率密度、扫描速度、送粉速率、材料相容性。 激光熔覆用途 形成特殊表面层；零件修复、恢复尺寸。 * 激光表面合金化技术 二、高能束表面处理 铸铁·大型轧辊·激光合金化 * 激光表面合金化工艺 预制涂层法：刷涂、电镀、热扩渗、喷涂等； 同步送粉法：将含有强化粒子材料送入熔池； 激光气体合金化法：激光熔化铝或钛合金通入N2、O2等气体。 二、高能束表面处理 * 激光表面合金化特点 既改变表层的物理状态，又改变其化学成分； 与激光熔覆激光表面合金化的基材熔化程度高，需要更大的能量密度。 二、高能束表面处理 包头市鑫垣机械制造有限责任公司 球墨铸铁轧辊激光表面合金化 * 激光表面淬火 二、高能束表面处理 内蒙古科技大学 轧辊表面强化 广州某光科技术有限公司 齿轮激光淬火 * 激光表面非晶化和熔凝 二、高能束表面处理 齿圈激光熔凝 轧辊激光熔凝 3.电子束表面处理及热过程 原理 * 二、高能束表面处理 电子束能量密度达103MW/m2，比激光高一至二个数量级。 电子束加热深度和尺寸比激光大。 缺点：必须在真空环境中处理。 电子束表面改性方法 ①电子束淬火； ②电子束表面合金化； ③电子束覆层； ④制造非晶态层； 此外，电子束蒸镀、溅射也应属于电子束的改性范畴。 * 二、高能束表面处理 4.离子注入原理、装置及应用 原理-把所需的离子（如N、C、O、Cr、Ni、Ti等元素离子）加速至几万甚至百万电子伏特能量，并注入金属材料表层。 * 二、高能束表面处理 离子注入强化机理 ①固溶强化； ②细晶强化； ③晶格损伤强化； ④弥散强化； ⑤晶格变换效应； ⑥压应力效应(喷丸强化)。 * 二、高能束表面处理 离子注入机 离子注入特点 ①靶材与注入元素不受限制； ②不受温度限制； ③不受固溶度、扩散系数、结合力限制； ④可精确控制掺杂数量、深度与位置； ⑤横向扩散可忽略，深度均匀； ⑥不改变工件尺寸； ⑦缺点：设备昂贵，成本较高，在真空中处理。 * 二、高能束表面处理 1）简述材料表面工程在材料科学研究中的重要性； 2）针对石油装备材料表面改性及强化的研究方法，对其工作原理及应用进行论述； 3）结合课题方向，简述学习《材料表面工程》这门课的心得体会； 4）篇幅要求：20页（1.5万字左右）。 《材料表面工程》大作业要求 材料表面工程 主讲教师：吕 祥 鸿 西安石油大学材料科学与工程学院 * 一、气相沉积技术 二、高能束表面处理 目 录 一