高真空离子溅射仪EMSQ150和台式磁控溅射系统价格.docxVIP

『润联网』 登录【润联网】查询价格登录“润联网” 可查找底价 高真空离子溅射仪EMSQ150和台式磁控溅射系统价格 标题:高真空离子溅射仪EMSQ150和磁控溅射系统NSC-4000(M)价格库号：JX164033 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： 仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4．工作真空： 2×10-1—10-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，10．真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管。主要特点：轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作标题:溅射仪和溅射仪ETD-800参数库号：JX164034 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。