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纳米TiO2光催化资料

纳米TiO2光催化剂 资科1201 11 蒋鹏 光催化过程和原理 溶解氧及水和电子及空穴相互作用,最终产生高活性的羟基(O2-或者H2O2)。HO自由基(O2-或者H2O2)具有非常强的氧化性,能把大多数吸附在纳米二氧化钛表面的有机污染物(简称为R)降解为CO2和H2O,把无机污染物氧化或还原为无害或者毒性比较低的物质。 * * 目前,制备纳米TiO2的方法有很多,可归纳为气相法和液相法两大类。尽管气相法制备的TiO2纳米粉体纯度高、粒度小、单分散性好,但其制备设备复杂、能耗大、成本高的缺点又严重制约了气相法的应用和发展。相比之下,液相法具有合成温度低、设备简单、易操作、成本低等优点,是目前实验室和工业上广泛采用的制备纳米粉体的方法。 * 纳米TiO2光催化剂简介※ 纳米TiO2光催化剂的特点 纳米TiO2光催化剂的制备※ 纳米TiO2光催化剂的应用 总结 纳米TiO2光催化剂简介 什么是多相光催化剂? 多相光催化是指在有光参与的情况下,发生在催化剂及表面吸附物(如H2O,O2分子和被分解物等)多相之间的一种光化学反应。 光催化反应是光和物质之间相互作用的多种方式之一,是光反应和催化反应的融合,是光和催化剂同时作用下所进行的化学反应。 纳米TiO2是一种新型的无机金属氧化物材料,它是一种N型半导体材料,由于具有较大的比表面积和合适的禁带宽度,因此具有光催化氧化降解一些化合物的能力,纳米TiO2具有优异的光催化活性,并且价格便宜,无毒无害等优点因此被广泛的应用。 纳米TiO2粉体 半导体是指电导率在金属电导率(约104~106Ω/cm)和电介质电导率( <1-10 Ω/cm)之间的物质,一般的它的禁带宽度Eg小于3eV。 半导体的能带结构 导带 价带 禁带 Eg< 3eV 掺杂半导体 N型半导体 (正电荷中心起提供电子的作用,依靠自由电子进行导电) P型半导体(负电荷中心起提供电子的作用,依靠空穴进行导电) 半导体 本征半导体(纯的半导体,不含有任何杂质,禁带中不存在半导体电子的状态,即缺陷能级) 实际半导体中,由于半导体材料中不可避免地存在杂质和各类缺陷,使电子和空穴束缚在其周围,成为捕获电子和空穴的陷阱,产生局域化的电子态,在禁带中引入相应电子态的能级。N型半导体的缺陷能级Ed靠近导带,P型半导体的Ea靠近价带。 Ec Ed Ev 价带 Ec Ea Ev 导带 价带 导带 P型半导体的能级 N型半导体的能级 常见的光催化材料 photocatalyst Ebg(eV) photocatalyst Ebg(eV) Si 1.1 ZnO 3.2 TiO2(Rutile) 3.0 TiO2(Anatase) 3.2 WO3 2.7 CdS 2.4 ZnS 3.7 SnO2 3.8 SiC 3.0 CdSe 1.7 Fe2O3 2.2 α-Fe2O3 3.1 ZnO在水中不稳定,会在粒子表面生成Zn(OH)2 铁的氧化物会发生阴极光腐蚀 金属硫化物在水溶液中不稳定,会发生阳极光腐蚀,且有毒! 光催化技术的发展历史 及研究领域 TiO2光催化剂的优点 TiO2的结构与性质 Ti O TiO6 金红石型 锐钛矿型 TiO2晶型结构示意图 TiO2光催化材料的特性 优缺点 TiO2光催化剂的催化机理 半导体的能带结构 半导体存在一系列的满带,最上面的满带成为价带(valence band,VB)存在一系列的空带,最下面的空带称为导带(conduction band,CB);价带和导带之间为禁带。 当用能量等与或大于禁带宽度(Eg)的光照射时,半导体价带上的电子可被激发跃迁到导带,同时在价带上产生相应的空穴,这样就在半导体内部生成电子(e-)—空穴(h+)对。 光催化反应类型 反应物被光激发后,在催化剂作用下引起的催化反应: 由激发的催化剂K*所引起的催化反应 催化剂和反应物有很强的相互作用,如生成配合物,后者再经激发进行的催化反应 在经多次激发后的催化剂作用下引发的催化反应

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