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膜分离技术在电子工业纯水制造中的应用 ??评论:0 条 ? 查看:372 次 ? lee8023 发表于 2006-10-30 13:28 一、纯水在电子元器件生产中的作用 　　纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在电子元器件生产中，高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。 　　在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂敷碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃；含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg[1]。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求见表1。 表1?? 显像管、液晶显示器用纯水水质 项目单位 电阻率 MΩ·cm (25t) 细菌 个/ml 微粒 个/ml TOC mg/L Na+ μg/L K+ μg/L Cu μg/L Fe μg/L Zn μg/L 黑白显像管 彩色显像管 液晶显示器 ≥5 ≥5 ≥5　 ≤5 ≤1 ≤1 ≤10(Φ＞0.5μ) ≤10(Φ＞1μ) ≤10(Φ＞1μ) ≤0.5 ≤0.5 ≤1 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤8 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 　　在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，族元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化[2]，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏[3]，水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要求见表2。 表2? 集成电路（DRAM）对纯水水质的要求[4][5][6] 集成电路（DRAM）集成度 16K 64K 256K 1M 4M 16M 相邻线距（μm） 4 2.2 1.8 1.2 0.8 0.5 微粒 直径（μm） 0.4 0.2 0.2 0.1 0.08 0.05 个数（PCS/ml） ＜100 ＜100 ＜20 ＜20 ＜10 ＜10 细菌（CFU/100ML） ＜100 ＜50 ＜10 ＜5 ＜1 ＜0.5 电阻率（μs/cm，25） ＞16 ＞17 ＞17.5 ＞18 ＞18 ＞18.2 TOC(ppb) ＜1000 ＜500 ＜100 ＜50 ＜30 ＜10 DO(ppb) ＜500 ＜200 ＜100 ＜80 ＜50 ＜10 Na+(ppb) ＜1 ＜1 ＜0.8 ＜0.5 ＜0.1 ＜0.1 　　二、膜技术在纯水制造中的应用 　　纯水制造中应用的膜技术主要有电渗析（ED）、反渗透（RO）、纳滤（NF）、超滤（UF）、微滤（MF），其工作原理、作用等见表3。 表3? 纯水制造中常用的膜技术 膜组件名称 ED RO NF UF MF 微孔孔径 5-50埃 15-85埃 50-1000埃（1μm） 0.03-100μm 工作原理 离子选择透过性 1.优先吸附-毛细管理论 2.氢链理论 3.扩散理论 同左 滤膜筛滤作用 同左 作用 去除无机盐离子 ??? 去除无机盐离子，以及有机物、微生物、胶体、热源、病毒等 ??? 去除二价、三价离子，M＞100的有机物，以及微生物、胶体、热源、病毒等 ??? 去除悬浊物、胶体以及M＞6000的有机物 去除悬浊物 组件形式 膜堆式 ??? 大多为卷式，少量为中空纤维 同左 ??? 大多为中空纤维，少量为卷式 ?