第9章 特征编辑(修正s).ppt

【选项】面板选项： 【相同】：实例特征与原始特征尺寸相同，放置在同一平面内，且实例特征不能超出放置平面的范围，同时各个特征之间也不允许出现干涉。 【可变】：实例特征与原始特征的尺寸及放置平面均可有变化，但各特征间不允许有干涉。 【一般】：缺省选项。实例特征与原始特征的尺寸及放置平面均可不同，并且特征之间也允许有干涉。 9.10.2 尺寸阵列（后续） 尺寸阵列是常用的特征阵列方法，它通过分别定义驱动尺寸和尺寸增量来创建阵列特征。 根据设计的需要，可选取一个方向的尺寸作为驱动尺寸，创建一维阵列。也可分别选取两个方向的尺寸均作为驱动尺寸，创建二维阵列。当驱动尺寸为角度尺寸时，还可指定角度增量，获得圆周分布的旋转阵列。 以下使用尺寸阵列方法创建一维阵列（相同阵列方式）和二维阵列（一般阵列方式）。 9.10.2 尺寸阵列（后续） 9.10.2 尺寸阵列（完） 以下使用尺寸阵列方法创建二维旋转阵列。 9.10.3 方向阵列 方向阵列主要用于创建线性阵列。 它可以通过选定阵列的方向参照来确定阵列的方向，从而避免尺寸阵列方法对尺寸的过分依赖。 可作为方向参照的有：平面、基准轴、实体边线、线性曲线和坐标系等。 9.10.3 方向阵列 以下使用方向阵列方法创建二维线性阵列： 9.10.4 轴阵列 轴阵列方式可以创建一维或二维旋转阵列。 创建一维旋转阵列时，只需选取一条轴线作为参照，并设定阵列特征总数及角度尺寸增量即可。 创建二维旋转阵列时，还需要给定沿径向方向的阵列特征总数及尺寸增量。 缺省情况，角度方向上的阵列特征沿逆时针方向均匀分布，径向阵列方向远离轴线方向。需要改变阵列方向，可在操控板中，选取调整阵列方向图标按钮，或在尺寸增量文本框中输入负值。 9.10.4 轴阵列 以下使用轴阵列方法分别创建一维旋转阵列、二维旋转阵列。 9.10.4 轴阵列 图 零件模型 * 图 设定轴阵列参数 图 创建的轴阵列特征 9.10.5 填充阵列 使用填充阵列方式可以在选定的区域内，按照选定的填充格式（栅格模板）和填充参数（阵列实例间距、阵列实例与填充边界的最小距离、栅格绕原点的旋转角度等）来创建阵列特征。 系统提供的填充格式 或栅格模板有六种： 正方形、菱形、 三角形、圆、 曲线和螺旋。 9.10.5 填充阵列 以下使用填充阵列方法分别创建圆形填充阵列和曲线填充阵列 ： 9.10.6 表阵列 表阵列是一种灵活的阵列方式，可以创建位置分布不规则的复杂阵列特征。 创建时，首先需创建一个可编辑的阵列表，表中包含了创建阵列实例特征的尺寸参数，然后编辑阵列表，为每个实例特征指定尺寸参数来创建阵列特征。 还可以为一个阵列建立多个阵列表。然后，在操控板【活动表】下拉列表框中选取不同的表作为活动表来变换创建阵列的驱动表。 9.10.6 表阵列 以下使用表阵列方法分别创建由不同表驱动的阵列特征 ： 9.10.6 表阵列 图9.24 显示特征尺寸值 * 图9.26 创建的表阵列特征 图9.25 输入子特征参数 9.10.7参照阵列 参照阵列是一种建立在原有阵列基础上的阵列方式。它可以在创建了一个特征阵列后，方便地将已有阵列原始特征上的新增加特征添加到各个实例特征之上。 如果新增特征属于如：倒角、倒圆角等无法用其它方式进行阵列的特征类型，系统自动采用【参照】阵列类型进行阵列。否则，系统将打开阵列操控板，由操作者选取合适阵列类型。 参照阵列示例一 参照阵列示例二 9.10.7 参照阵列 9.10.7 参照阵列 图9.27 零件模型 图9.28 参照阵列特征 * 9.10.8 曲线阵列 曲线阵列表示可沿所指定的轨迹曲线创建阵列特征。 图9.32 零件模型 * 图9.33 草绘阵列曲线 图9.34 创建的曲线阵列特征 9.11.1 特征镜像 9.11.2 镜像操作实例 9.11 特征镜像 特征镜像是将特征对某一平面投影，从而产生与原选定特征具有相同外形，且关于选定平面对称的特征。 创建镜像特征时，可以选取一个特征或按下Ctrl键选取多个特征作为要镜像的特征。 镜像平面是特征镜像的重要组成部分，作为原特征和镜像后特征的对称平面，既可以是基准平面，也可以是实体上的任一平面。 9.11.1特征镜像 特征镜像的三种方式： 1. 使用右工具箱中的镜像图标按钮。 2. 使用【编辑】主菜单下的【镜像】选项 3. 使用【复制特征】菜单下的【镜像】选项 创建以下镜像特征： 9.11.2 特征镜像实例 9.13 本章小结 本章