碟片激光器系统的膜层说课.doc

碟片激光器系统的膜层 St. Günster*a, D. Ristaua, B. Weicheltb, A. Vossb aLaser Zentrum Hannover e.V. (LZH) , Hollerithallee 8, 30419 Hannover, Germany bInstitut für Strahlwerkzeuge (IFSW), Pfaffenwaldring 43, 70569 Stuttgart, Germany 摘要：与激光密不可分，这主要取决于次数决定着）同时尤其是满足 Hannover激光中心已经研发出一种簇沉积工具用于TDL系统的膜层沉积。这种簇沉积工具包括三个部分，第1个腔是ugate滤光器膜层沉积。整个过程由一个光学宽带监控器（BBM）基于 关键词：膜层沉积，碟片激光器，Rugate滤光器，膜层应力，金属 1.引言 的1-5]。这种系统所采用的泵浦源是泵浦光波长TDL）的理念中采用的是的激光激活碟片，这个理念不仅可以延用到更高的激光器输出还可以）b:YAG，它光泵浦下的基本波长是。TDL的关键组成部分是碟片模块元件，它包含镀在激光激活）和），泵浦光）碟片，它R系统本身就必须要和散热器接触，因此，不管是通过焊接还是胶粘，都 图1：包含激光激活材料，膜层DUL元件的示意图 DISKMODUL元件的生产是相当困难的。首先要选择无缺陷和高效率的激光材料，其-金属系统膜层。其次，，必须，采用的 通常，生产过程中采用的是标准镀膜方法，譬如））或者）通常所以会欣慰的是，不久前Hannover一种它可以并nnonet项目DISKMODUL[6]的框架中实现这个方案。 2.DISKMODUL簇沉积工具 DISKMODUL元件对于产品优化—LZH，其理念主要将生产任务分为三个部分：1. 通过一个负载锁定系统将激光碟片基板引入真空系统，还能够对可见光低损耗ugate滤光器的渐变折射率膜层的沉积。3.最后，为了达到反射和焊接的目的而不对其它任务造成不良影响，沉积）负载提供而且即电介质，）--传输，GieBen，德国）的环境是由的它当然必须，的范围之间，膜层沉积过程中的气压则在左右，膜层典型的沉积速率在之间。金属靶材被设置成一个桨状的装置（图3）允许而且可以以还镀膜话任何只要 图2：LZH DISKMODUL簇沉积腔上视示意图 3腔，为金属层的溅射沉积提供牵引直流。通常所采用的金属材料是金，铜而，过程 流程控制采用了先进的实时监控工具，即）7]。在沉积过程中，该系统连续不断的采集生长层范围内的光谱。从光谱上看，可以实时推导出薄膜厚度和材料色散，之后光学特性 机械的是）然而可能应力它Duderstadt 德国）提供的腔内应力测量系统测量 图3：离子束--靶—左侧） 碟片激光器基板的沉积是一个相当复杂的过程，尤其是在金属化的情况下，对于电介质层的沉积要采用不同金属电介质 图4：金属 3.实验 其中离子束和采用不同可见光和处以热量和这些的的LIDT）LZH FAST –TS检查系统对一组沉积膜层进行缺陷的标准 基础气压 靶材料 Ta，Si，Hf，Al 沉积条件 氩气 氧气 离子束电流 离子束电压 运行中气压 典型沉积速率 4.结果 .1膜层设计结果 碟片激光器膜层镜面的合成设计必须遵从光学和机械性能，同样该上升）ugate顶层的标准叠阵膜层和平滑Rugate膜层。图5中的每一幅图都显示出了相对于整个系统光学厚度的折射率。除了碟片方面的膜层是了它除非 图5：在簇沉积工具中沉积的纯 图6：两个典型的TDL高反率（HR）））左ugate系统：右） 图7：金属TDL高反率（HR））） 4.2应力测量结果 得益于腔内应力测量仪，我们可以快速获知膜层机械应力的表征。如上所述，在沉积过程中，探测光束对的光束偏转也可以测量，而这样所和8层结构的测量数据。该图，我们采用期间，层不同的厚度或者倾斜程度来得出。此外，层的应力会减小。 基于所确定的应力水平，可以选出最小化激光碟片基板表面弯曲的工艺条件 图8：实时应力的测量结果。相比于沉积时间（左）-8层探测光束对的偏移量。每一层相应的工艺参数示于右图中。 4.3缺陷检查 利用LZH FAST –TS进行缺陷检查，这个同样oblenz球体一系列装置的散射测量结果迅速记录TS数据。实验中，）的表面特征。这种散射法是最灵敏的方法，而且 图9：样品表面总的散射信号。镜面膜层d101218_2_ts1的快速TS测量结果（基础值39ppm）]。 4.4损耗测量结果和LIDT 在处用CRD（彩色反射式密度仪）以上水平，其中之间，透光率则在。在和处，对于标