7离子镀膜.ppt

离子镀膜技术 Ion Plating;§4.4 离子镀膜技术; 离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基片上。 离子镀把气体的辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起，不仅明显地提高了镀层的各种性能，而且大大地扩充了镀膜技术的应用范围。 近年来在国内外都得到迅速发展。;离子镀膜技术——离子镀膜的原理;离子镀膜技术——离子镀膜的原理;离子镀膜技术——离子镀膜的特点;离子镀膜技术——离子镀膜的特点;离子镀膜技术——离子轰击的作用; ;离子镀膜技术——离子轰击的作用;离子镀膜技术——离子轰击的作用; 破坏表面晶格 离子轰击产生的缺陷很稳定的话，表面的晶体结构就会被破坏而成为非晶态 气体掺入 不溶性气体的掺入能力决定于迁移率、捕获位置???基片温度及淀积粒子的能量大小 非晶材料捕集气体的能力比晶体材料强。 表面成分改变 溅射率不同 表面形貌变化 表面粗糙度增大，溅射率改变 温度升高;离子镀膜技术——离子轰击的作用;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;离子镀膜技术——离子镀膜的类型;缺点是： 由于工作真空度较高，故镀膜的绕射性差 射频对人体有害;离子镀膜技术——习题和思考题; 离子束溅射→离子镀膜法;优点：成膜能精确控制，调束流和离子束能即可； 高真空度下成膜，膜层质量好； 基片温度低。;2. 分子束外延制膜法(MBE);分子束外延装置:;分子束外延制膜法(MBE)的优点:;3. 化学气相沉积法(CVD);热分解反应沉积： 在加热基片上进行的热分解反应而形成的固态膜。;化学气相沉积条件：;4. 等离子体化学气相沉积法(PECVD);成膜机理：;5. 光CVD