晶体的电光效应答案.ppt

第四组：姚 博 高瑞林 贾洁姝 杨成华 周文龙 毛祖金;电光效应基本概念 纵向电光效应及横向电光效应 电光效应器件 结论 ;电光效应的概念 线性电光效应 二次电光效应;电光效应是指材料在直流或低频交流电场作用下，折射率发生明显改变的一种现象。 电光晶体材料可用于制备多种可实现高速调谐的光通信器件，比如电光调制器、光开关、波长转换器和波导光栅等，被广泛的应用于激光通信、激光测距、激光显示和光学数据处理等方面。;分类： 按照外加电场下晶体材料的折射率变化分为两种： 1、线性电光效应：非中心对称晶体中折射率的变化与外加电场强度成线性关系。也叫做泡克尔斯（Pockels）效应。 2、二次电光效应：中心对称晶体中晶体折射率变化与外加电场的平常成正比，也叫做克尔（Kerr）效应。 ;晶体在受到光照的同时，若也受到外电场（低频或直流???的作用，其二级非线性极化强度为;由于 ;因为;折射率椭球的方法来分析晶体的电光效应 晶体的逆介电张量为 ;展开 ;根据固体电子理论，当在晶体上加上电场后，将导致晶体中束缚电荷的重新分布，且可能导致离子晶体晶格的微小变形，其最终结果是逆介电张量的改变。即施加电场时，折射率椭球将发生畸变，记作;上式可以表示为 ;引入以下简化下标 ;矩阵形式为 ;KDP晶体（42m晶类）。单轴晶体，设其主轴为X3轴，未加电场时候，折射率椭球为：;查阅资料知KDP电光效应矩阵为 ;因此得到 ;加电场后光率体变为 ;当只沿X3方向加电场时，折射率椭球为;利用微分关系;晶体的二次电光效应实际上是一种三阶非线性光学效应，跟线性电光效应一样，我们也采用逆介电张量折射率椭球的方法来描述，不同的是逆介电张量对外加电场的二次方产生响应。 ;由式;二次电光效应表示为 ;二次电光效应的矩阵形式为 ;顺电相KLTN晶体（m3m点群）为例 ，没有外加电场时晶体各向同性，只有一个折射率n0，其折射率椭球是一个球面 ;二次电光系数矩阵有如下形式 ;在晶体上加上电场后 ;新的折射率椭球为 ;如果电场加在晶体的 方向 ， ， 代入上式得 ;根据实际应用中晶体上所加电场方向与通光方向的相对位置不同，通常也将电光效应分为两类，纵向电光效应与横向电光效应。所加电场方向与通光方向平行的被称为纵向电光效应，电场方向与通光方向互相垂直的被称为横向电光效应。下面我们举例来分析纵向与横向电光效应的优缺点。 ;纵向电光效应 横向电光效应;仍然以KDP为例，实验装置如下图所示;晶体后存在相位差为 ;晶体的半波电压及电光系数的测定值 ;半波电压是晶体材料的一个十分重要的参数，通常电光材料都存在一定的电压阈值，超过容易被击穿，而且过高的半波电压对实验条件要求造成一定的难度及危险性，所以寻找大的电光系数及低半波电压的电光晶体材料已经成为一个研究热点。 ;采用纵向电光效应有以下几点问题需要解决 （1）电极问题 （2）电光系数一般较小 ;前面对非中心对称的晶体线性电光效应分析可知，当外加电场方向与通光方向垂直，产生的相位差除了受电场控制外还会受到自然双折射的影响。晶体的自然双折射对温度有很高的敏感性，要实现很严格的控温，精度在0.005℃，这对实际条件来说是非常困难的。但是对于中心对称的晶体来说，可以从根本上避免这一问题。 ;以顺电相KLTN晶体为例 ;通过晶体后两束偏振光的相位差为 ;光开关 电光强度调制器 Q开关 ;入射光通过起偏器后在X和Y方向分为两个振幅，相位相同的分量用，用复数表示为 ;产生的相位差为 ;电光晶体做光开关器件有几个重要的参数 ： （1）大的电光系数 （2）开关速度 （3）消光比 ;电光强度调制器其设计光路与上述光开关光路相同，已知 ;系统的光学透过率与电压的关系曲线 ;因为晶体为二次电光效应，所以对信号光的采集应该二倍与电压的频率。由上图可知，输出光强度随电压改变呈三角函数曲线变化。我们可以通过连续改变外加电场，达到连续改变输出光强的目的。 ;Q装置原理图 ;Q开关与光开关也有相同的性能参数： （1）响应速度，高的响应速度可以产生高频率的激光脉冲。 （2）大的电光系数，利用较小调制电压就可以达到调制目的，方便实验及激光器设计。 ;晶体的电光效应是一个很有实用价值的物理效应，它已经在当今军事系统，光通讯系统，科学研究等广泛领域起到很大的作用，并且仍然吸引研究者们不断去寻找新的电光材料。;