纳米加工平台工艺申请表 (2012年版).docVIP

PAGE  PAGE 11 纳米加工平台工艺申请表 （2012年版） 批号: 申请人申请人电话申请人邮箱申请人签字付费人课题编号付费人邮箱付费人签字申请日期所属单位试验目的及说明样品材料样品尺寸样品数量与编号目的序号工艺名称工艺要求及说明日期工艺记录和检测结果工艺员计价和确认备注1清洗 八槽清洗机 HL-071004 手动加工数量： 批次： 需清洗材料/尺寸/厚度： 使用清洗液（请选择）：1号液、2号液、硫酸双氧水、丙酮、异丙醇、乙醇 清洗方式：月 　日 开始时间： 完成时间：本工艺总用时： 本步工艺计价： ￥ 工艺负责人确认： 工艺申请人确认：2匀胶 国产小匀胶机 SSE、 Track KW-4加工数量： 衬底材料和尺寸： 光刻胶类型和厚度： HDMS预处理（请选择）：需要；不需要 使用匀胶机类型：月 　日 开始时间： 完成时间：光刻胶类型： 涂胶转速/时间： 匀胶次数： 本步工艺计价： ￥ 工艺负责人确认： 工艺申请人确认：3接触光刻 一楼MA6/BA6 二楼MA6/BA6 URE-2000