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NAND_FLASH详解
深度解读闪存-FLASH;第三章 FLASH发展;第一章 FLASH的感性认识;第二节 FLASH的分类
功能特性分为两种:一种是NOR型闪存,以编码应用为主,其功能多与
运算相关;另一种为NAND型闪存,主要功能是存储资料,如数码相机
中所用的记忆卡。
NOR FLASH和NAND FLASH
NOR和NAND是现在市场上两种主要的非易失闪存技术。Intel于1988年
首先开发出NOR flash技术,彻底改变了原先由EPROM和EEPROM一统
天下的局面。紧接着,1989年,东芝公司发表了NAND flash结结,强调
降低每比特的成本,更高的性能,并且象磁盘一样可以通过接口轻松升
级。但是经过了十多年之后,仍然有相当多的硬件工程师分不清NOR和
NAND闪存。
;
NOR FLASH和NAND FLASH的区别
NOR的读速度比NAND稍快一些。
NAND的写入速度比NOR快很多。
NAND的4ms擦除速度远比NOR的5s快。
大多数写入操作需要先进行擦除操作。
NAND的擦除单元更小,相应的擦除电路更少
;SLC/MLC基本原理
什么是SLC和MLC?
SLC全称为Single-Level Cell,MLC全称为Multi-Level Cel数码播放器中一般采用两种不同类型的NAND闪存。其中一种叫做SLC(Single Level Cell),单层单元闪存;第二种叫做MLC(Multi Level Cell),多层单元闪存。两者的主要区别是SLC每一个单元储存一位数据,而MLC通过使用大量的电压等级,每一个单元储存两位数据,数据密度比较大。
SLC芯片和MLC技术特点及区别
一般而言,SLC虽然生产成本较高,但在效能上大幅胜于MLC。SLC晶片可重复写入次数约10万次,而MLC晶片的写入次数至少要达到1万次才算标准,而目前三星MLC芯片采用的MLC芯片写入寿命则在5000次左右。;A.读写速度较慢。相对主流SLC芯片,MLC芯片目前技术条件下,理论速度只能达
到2MB左右,因此对于速度要求较高的应用会有一些问题。
B.MLC能耗比SLC高,在相同使用条件下比SLC要多15%左右的电流消耗。
C.MLC理论写入次数上限相对较少,因此在相同使用情况下,使用寿命比较SLC短。
D.MLC的价格比SLC低30%~40%,有些甚至更低。
目前MLC和SLC 在2GB闪存芯片上的价格相差了将近100多元,他们的差异还是比
较明显的。所以对于选择数码播放器的朋友,选择更便宜廉价的MLC芯片产品还
是选择稳定性和性能更好的SLC产品,就看你的需要了。;第三节 NAND FLASH 品牌;第二章 FLASH制作过程;第一节 封装方式;封装方式一 BGA;2.虽然BGA的功耗增加,但由于采用的是可控塌陷芯片法焊接,从而可以改善
热性能。
3.信号传输延迟小,适应频率大大提高。
4.组装可用共面焊接,可靠性大大提高。;封装方式三 TSOP;单芯片TSOP生产工艺流程比较简单,只需要经过一次贴片、一次烘烤、一次引线键合就可以了,流程如图所示: ;第二节 FLASH具体制作封装过程;
晶圆是制造IC的基本原料,而晶圆又是什么制作来的呢--硅,晶圆的原始材
料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅 。
硅是由沙子所精练出来的,晶圆便是硅元素加以纯化(99.999%)接着是将
这些纯硅制成长硅晶棒,成为制造积体电路的石英半导体的材料,经过照相制
版,研磨,抛光,切片等程序,将多晶硅融解拉出单晶硅晶棒,然后切割成一片
一片薄薄的晶圆。我们会听到几寸的晶圆厂,如果硅晶圆的直径越大,代表著这
座晶圆厂有较好的技术。另外还有scaling技术可以将电晶体与导线的尺寸缩
小,这两种方式都可以在一片晶圆上,制作出更多的硅晶粒,提高品质与降低成
本。所以这代表6寸、8寸、12寸晶圆当中,12寸晶圆有较高的产能。当然,生产
晶圆的过程当中,良品率是很重要的条件。
硅晶棒再经过研磨,抛光,切片后,即成为积体电路工厂的基本原料——硅
晶圆片,这就是“晶圆”。在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有
特定电性功能之IC产品。
;第三章 FLASH的发展;第一节 闪存前期发展至90纳米制程的过渡;1.2001年初,三星电子18日表示,已推出采用0.15微米制程技术的512Mb NAND型快闪内存。
2.2001年9月,三星电子领先业界首度采0.12微米制程,将1G NAND型闪存(Flash Memory)商用化,此次共推出1G单颗闪存及2颗堆栈式2G闪存,计划用于近来需求遽增的PDA与记忆卡等需储存量多资料的产品。
3. 2004年ST采用120纳
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