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第一章 X线检查技术 学习目的要求 1．掌握X线摄影基础知识，常规X线检查技术，CR、DR参数选择及影像效果，常用造影检查方法等。 2．熟悉X线摄影条件，CR、DR操作流程及临床应用。 3．了解优质X线照片的标准及各部位摄影的标准片要求。 第一节 X线摄影条件 一、感光效应及其影响因素 1．管电压 管电压(tube voltage)是影响照片密度值、对比度、层次及信息量多少的重要因素。 管电压的作用主要有二个方面： ①在X线摄影中，管电压代表着X线的穿透能力，高的管电压可以穿透更厚和更高密度的结构； ②管电压代表X线光子的能量，管电压越高，感光量越多。 2．管电流量 管电流量代表X线量的多少，因而管电流量的大小直接影响探测器感光量的多少。管电流量增加探测器感光量增加，影像的量子斑点减少。但是对于屏-片组合而言，管电流量过高会使照片黑化度（光学密度）太大，组织结构不易观察。 3．摄影距离 焦点至探测器的距离称为摄影距离,或称源像距（source-image distance, SID）。焦点至胶片的距离，简称为焦-片距（focus-film distance；FFD）。在感光量计算公式中SID就是r。在摄影的有效范围内，探测器上得到的感光量与SID的平方成反比。 4．成像探测器 （1）屏-片组合 1）胶片 （ⅰ）种类 ①一般摄影用X线胶片 ②多幅相机和激光打印机成像胶片 （ⅱ）结构：直接摄影用X线胶片，主要由感光乳剂层、片基、保护层和底层构成。 （ⅲ）感光特性：感光材料中直接决定和影响影像质量的因素统称为照相性能。包括： ①感光性能 ②物理性能 ③成像性能 2）增感屏 增感屏(intensifying screen)是X线摄影的重要器材之一。在X线摄影中，利用X线激发增感屏的荧光体所产生的荧光对胶片增加感光作用，大大减少X线曝光量。 （ⅰ）种类：增感屏的种类根据其构成及用途分成三大类： ①钨酸钙屏 ②稀土增感屏 ③特殊增感屏 （ⅱ）增感屏结构：增感屏主要有四层组成： ①基层 ②荧光体层 ③保护层 ④反射层或吸收层 （ⅲ）性能：增感屏的性能有二个方面： ①增感率 ②对影像效果的影响 3）屏-片组合 屏-片组合成像性能的优劣表现在X线照片影像与输入的X线信息影像的差别上，差别越小，屏-片组合的信息传递功能就越好。屏-片组合的信息传递功能通过MTF的测定来客观评价。 （2）影像增强器-电视系统 影像增强器-电视（II-TV）摄像机系统中，增强器将X线转换成可见光，并将其强度增强放大数千倍，再用TV摄像机内转换为电子信号，影像用阴极射线管（CRT）显示。现代的系统已将输出信号数字化，影像可用阴极射线管或液晶屏显示。 （3）成像板 1）成像板结构 ①表面保护层 ②PSL物质层 ③基板 ④背面保护层 2）特性：IP主要结构是荧光物质层，它对放射线、紫外线的敏感度远高于普通X线胶片，摄影后IP上的潜影会因光的照射而消退，避光不良或漏光的IP上的图像会因储存的影像信息量减少而发白。 IP具有以下特性： （ⅰ）发射与激发光谱 （ⅱ）时间响应特征 （ⅲ）动态范围 （ⅳ）存储信息的消退 （ⅴ）天然辐射的影响 （4）平板探测器 1）直接型平板探测器 （ⅰ）组成：主要由导电层、电介层、Se(硒)层、顶层电极、集电矩阵层、玻璃衬底、保护层，以及高压电源和输入输出电路组成（图1-4）。 （ⅱ）特性： ①直接光电转换 ②直接读出X线曝光过程中的电荷分布 ③量子检测效率（DQE） ④曝光宽容度大 ⑤X线敏感度和响应特性 ⑥空间分辨力 ⑦MTF 2）间接型FPD：是一种以a-Si（非晶硅）光电二极管阵列为核心的X线影像间接型FPD。 （ⅰ）基本组成：a-Si FPD基本组成是由CsI闪烁体（cesium iodide scintillator）层、a-Si光电二极管阵列、行驱动电路、列读取电路以及图像信号读取电路等部分构成。 （ⅱ）性能参数：①MTF较高。②对于FPD图像系统，系统的噪声水平是影响最终成像质量的关键因素，FPD的噪声主要来源于X线量子噪声、探测器电子学噪声。在普通条件下，电子学噪声要远小于量子噪声。③量子检测效率也较高。④其他品质因素，有灵敏度、线性、记忆效应、探测器图像获取时间、探测器的温度稳定性（stability）等。 3）电离型探测器：电离型DR 系统的成像探测器为线状结构，采用动态线扫描技术直接接收X 射线光子。有两种形式：一种为多丝正比室，另一种是电离室。 5．滤线栅 X线摄影时，被照体产生散射线，使照片影像上形成灰雾（fog），使影像的对比度减小，减少散射线到达胶片最有效的方法是利用滤线栅(grid)。一般认为肢体厚度超过10cm就应用滤线栅。 滤线栅