现代加工技术-09电子束、离子束加工教程方案.pptVIP

* 用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成“镀膜”。 溅射镀膜可镀金属，也可镀非金属。由于溅射出来的原子和分子有相当大的动能，故镀膜附着力极强（与蒸镀、电镀相比）。 离子镀氮化钛，美观耐磨。应用在刀具上可提高寿命1-2倍。 离子束源 靶 溅射材料 溅射粒子 工件 真空 离子束溅射镀膜加工 2.镀膜加工 （1）精密滚珠轴承采用离子镀膜后，使用寿命延长到数千小时； （2）刀具镀以几微米厚的TiN、TiC涂层后，寿命提高3~10倍； （3）在钛合金叶片上沉积一层贵金属（Pt、Au、Rh铑等）涂层，可使疲劳强度增加30%，抗氧化与耐腐蚀能力也大大提高。 * 离子镀膜 空心阴极放电离子镀装置示意图1-电子束　2-电子枪　3-空心阴极4-基板台　5-基板　6-蒸发物 用空心阴极放电技术，采用低电压(几十伏)、大电流(100A左右)的电子束射入坩埚，加热蒸镀材料并使蒸发原子电离，把蒸镀材料的蒸发与离化过程结合起来，使离化率高达22％~40％。是一种镀膜效率高、膜层质量好的方法。目前已用于工业生产。 * 用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。 可用于半导体掺杂（在单晶硅内注入磷或硼等杂质，用于晶体管、集成电路、太阳能电池制作），金属材料改性（提高刀具刃口硬度）等方面。 3.离子注入加工 （1）改变金属材料表面的力学性能，如提高硬度、耐磨性和抗疲劳性能、改变摩擦特性； （2）改变金属材料的物理性能，如电性能、超导性能、光学性能及绝缘性能； （3）改变金属表面的抗腐蚀性能，如抗化学腐蚀和抗高温氧化性能等。 * 用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。 4.离子束曝光-离子束光刻 * * * * * * * * * * 离子束刻蚀加工可用于制造激光器和红外传感器的高性能非球面透镜和反光镜、光学系统中的衍射光栅、压电传感器用晶片、陀螺转子轴承表面上的复杂结构、微型加速计的精确质量块以及超精密加工用的单晶金刚石刀具。 * 离子束刻蚀加工可用于制造激光器和红外传感器的高性能非球面透镜和反光镜。 * 离子束刻蚀加工可用于制造超精密加工用的单晶金刚石刀具。 * 离子束刻蚀加工可用于制造陀螺转子轴承表面上的复杂结构。 * * * 6.电子束表面处理 * 电子束将工件表面加热到相变温度以上，再快速冷却，从而达到表面热处理的目的。 特点： A）快速加热淬火，可得到超微细组织，提高材料的强韧性； B）处理过程在真空中进行，减少了氧化等影响，可以获得纯净的表面强化层； C）电子束功率参数可控，可以控制材料表面改性的位置、深度和性能指标。 6.电子束表面处理 * 应用：表面淬火、表面熔凝、表面合金化、表面熔覆和制造表面非晶态层。经表面改性的表层一般具有较高的硬度、强度以及优良的耐腐蚀和耐磨性能。 7.电子束光刻 * 先利用低功率密度的电子束照射电致抗蚀剂的高分子材料，由于入射电子与高分子相碰撞，使高分子的链被切断或重新聚合而引起分子量的变化，称为电子束曝光。如果按规定图形进行电子束曝光，会在电致抗蚀剂中留下潜像； 然后将曝光后的潜像浸入适当的溶剂中，则由于分子量不同而溶解度不一样，就会使潜像显影出来——显影； 将光刻与离子束刻蚀或蒸镀工艺结合就能在金属掩模或材料表面上制出图形来。 电子束曝光可以获得比可见光曝光更高分辨率的图像。 电子束可达到最佳0.25μm的线条宽度可见光波长 电子束曝光加工过程 * 图6-7 电子束曝光加工过程 A-电子束曝光；B-显影；C-蒸镀；D—离子刻蚀； E、F-去掉抗蚀剂，留下图形 1-电子束；2-电致抗蚀剂；3-基板；4-金属蒸汽；5-离子束；6-金属 离子束 4. 刻蚀 （形成沟槽） 5. 沉积 （形成电路） 6. 剥膜 （去除光致抗蚀剂） 3. 显影、烘片 （形成窗口） 窗口 2. 曝光 （投影或扫描） 掩膜 电子束 图24 电子束光刻大规模集成电路加工过程 1. 涂胶 （光致抗蚀剂） 氧化膜 光致抗蚀剂 基片 电子束光刻大规模集成电路 电子束刻蚀图案 * 电子束加工END * 电子束加工END Automatische Strahlpositionierung. Elektronenstrahl- Prozesskontrolle Ablenk- Verst?rker Verst?rker Bild- verarbeitung NC- Steuerung XY-Tisch Ablenk- steuerung Abtasten der