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 ?LCD基本構造(其斷面如下圖) 導電玻璃材料 就是在普通玻璃(不導電)的一個膠面層鍍上透明導電膜的玻璃.目前常用的導電玻璃是氧化銦,氧化錫玻璃,通常簡稱ITO玻璃,在生產過程中,每片玻璃都必經過万用電表檢 測,導電面為ITO正面,不導電面無ITO面為背面. 一、 ITO玻璃的結构,如圖1 ° 二、LCD制造用的ITO導電玻璃規格 玻璃厚度: 0.55mm 0.7mm 1.1mm 玻璃面積: 14 * 16 (或355.6mm * 406.4mm)\300*350 SiO2 阻擋層: 200 ~ 500A° (1 A°= 10 –10米 ) ITO層厚: 250 ~ 2000 A° SiO2 絕緣層厚: 500 ~ 1000 A° ITO導電玻璃的主要技術 透光率8% 方塊電阻R R 10Ω 、15Ω、30 Ω 、80 Ω 相對R 越小越好 若R 10Ω/ 膜厚1000 ~ 2000 A° R 100---300Ω/ 膜厚200---300 A ITO玻璃的技術要求 平整度好,一般要求平整度0.5um/20mm 机械強度与化學抗蝕性能,ITO層對玻璃(SiO2)表面的粘附力要強,不易脫落,抗划傷強.ITO膜能抗強鹼,但易被酸腐蝕. 光刻膠性能的主要指標. 感光度.光刻膠對光敏感的性能. 所以說,對于固定光強的曝光机,光刻膠的感光度越高,則曝光時間越短,反之,則差. 分辯率. 光刻精度的標志.它不僅与光刻膠本身有關.還与光刻工藝條件和操作技術等因素有關. 抗蝕性 只是在針孔密度小,粘附性能良好的情況下,才能有較強的抗酸.鹼能力. 接上 粘附力 光刻膠与ITO面之間沾附的牢固程度也直接影響光刻后的精度,光刻膠的沾附力与光膠本身性質有關.而且与玻璃面有密切關系.平整.清洁.干燥.無油質污染的表面有利于光刻膠的粘附.此外.光刻膠的配比,前烘條件,顯影液配方因素有關. 穩定性 – 光刻膠在常溫和暗房內(黃色光).光刻膠不發生暗反應. 針 孔 – 視其光刻膠膜上針孔形成密度盡可能低,它將直接影響光膠質量. 粘度和含固率 – 光刻膠越濃, 粘度就越大,涂膜就越厚,反之.就越薄, 因此.我們常采用改變光膠濃度調節粘度,控制膜厚度.例中: 光刻細小圖表時,為了提高分辯率,膠層相對薄些故采用濃度較稀的光刻膠. 溫度高.固含率低.粘度變小,膜薄,反之則厚. 光刻膠的分類 負性膠 – 在襯底表面將得到与光刻掩蓋版遮光圖形完全相反的圖形(不适用LCD制造業). 正性膠 – 這种膠在曝光前對某些溶劑是不可溶的,而曝光后就變成可溶性,能与掩模遮光圖形相同的圖案. 接上 此膠分辨率高,邊緣整齊,邊緣陡度好,以及反刻時易對准等优點,較易顯影,常被LCD制造業采用. 正性膠經強紫外線照射后,發生光合反應,經光照后的生成物能溶解于弱鹼性水溶液中, 而顯示出正圖形. 主要不良影響： 主要不良影響： 主要不良影響： 主要不良影響： * * LCD 培訓教材(一) 塗佈光阻劑 Photoresist Coating 顯 影 Developing 蝕 刻 Etching 剝 膜 Stripe 配向膜塗佈 Polyimide Coating 灌 液 LC Injection 定 向 Rubbing 印 框 Screen Printing 印 點 Cross-over Printing 預 烤 Pre-Curing 塗 佈 Spacer Spray 組 合 Glass Assembly 曝 光 Exposure 清 洗 Clean 清 洗 Clean 貼 片 Polarizer Assembly LCD製程流程圖 塗佈光阻劑 Photoresist Coating 顯 影 Developing 蝕 刻 Etching 剝 膜 Stripe 配向膜塗佈 Polyimide Coating 灌 液 LC Injection 定 向 Rubbing 印 框 Screen Printing 印 點 Cross-over Printing 預 烤 Pre-Curing 撒 佈 Spacer Spray 組 合 Glass Assembly 曝 光 Exposure 清 洗 Clean 貼 片 Polarizer Assembly 清 洗 Clean 顯 影 Developing 蝕 刻 Etching 剝