2008薄膜物理试题A卷.docVIP

哈工大 2008 年 春 季学期 班号 姓名 薄膜物理 试 题A卷 题号 一 二 三 四 五 六 七 八 九 十 总分 分数 一、填空 (每个1分，共10分) 1. 在离子镀膜成膜过程中，同时存在 和 作用，只有当前者超过后者时，才能发生薄膜的沉积 2. 薄膜的形成过程一般分为： 、 、 三种过程。 3．薄膜形成与生长的三种模式分别为 ， ， 。 4．在气体成分和电极材料一定条件下，起辉电压V只与 和 的乘积有关 二、解释下列概念 (每个2分，共10分) 1. 气体分子的平均自由程 2．饱和蒸气压 3．凝结系数 第 1 页 （共 7 页） 试 题： 班号： 姓名： 4. 物理气相沉积 5．溅射 三、回答下列问题 (每个5分，共50分) 1、真空的概念？怎样表示真空程度，为什么说真空是薄膜制备的基础？ 2. 工作气体的压力对溅射工艺有哪些影响？ 3．物理气相沉积法的共同特点？ 第 2 页 （共 7 页） 试 题： 班号： 姓名： 4. 化学气相沉积的特点和缺点有哪些？ 5. 辉光放电过程中为什么P·d太小或太大，都不容易起辉放电？ 6．真空蒸发系统主要哪几个部分组成？ 7. 什么是等离子体？以及等离子体的分类（按电离程度）？ 第 3 页 （共 7 页） 试 题： 班号： 姓名： 8. 简述化学吸附的特点？ 9. 简述分子束外延镀膜的特点? 10. 简述CVD输运反应的原理? 第 4页 （共 7 页） 试 题： 班号： 姓名： 四、证明下列公式 (10分) 合金中组元A、B的蒸发速率之比可表示为 试证明之 第 5 页 （共7 页） 试 题： 班号： 姓名： 五、计算题 (每个10分，共10分) 处于1527℃下的镍铬合金(Ni 80%, Cr 20%)在PCr=10Pa, PNi=1Pa时，它们的蒸发 速率之比 (MNi= 58.7 MCr = 52.0) (10分) 六、下图表示溅射薄膜组织的四种典型断面结构及衬底相对温度和溅射气压对薄膜组织 的影响，试分析各种组织的形成条件和特点。(10分) 第 6页 （共 7 页） 试 题： 班号： 姓名： 第 7 页 （共 7 页）