原子沉积法制备ZnOSiO2.docx

原子沉积法制备ZnO/SiO2：吸附剂去除水中有机污染物及吸附剂再生摘要：我们使用原子层沉积法制备直径为250-500微米的ZnO包裹介孔SiO2（ZnO/SiO2）颗粒。这种结构相比于单独的介孔二氧化硅对亚甲基蓝表现出更高的吸附能力。此外，ZnO/SiO2吸附饱和后可以很容易地从水溶液中分离，并在紫外线照射下通过ZnO的光催化活性用于解析吸附的亚甲蓝。此系统可用于在黑暗条件下有效地去除有机污染物和光催化再生，也就是：在水中的有机污染物的能够稳定在光暗交替条件下除去。1、介绍各种科学技术已经被用于废水处理，这是对于环境科学和技术的最重要问题之一。在废水处理中，采用有机和无机高比表面积的吸附剂，如活性炭，沸石，二氧化硅的各种吸附剂，已经吸引了越来越多的关注。通过吸附剂去除废水中的污染物是比较快速的过程，且当吸附剂被用于废水处理时是不需要额外的能量或化学试剂（如O3或者Cl2）。一种应用吸附剂的缺点是，它们可以仅使用在一段时期内，即在一定期间，伴随着吸附剂吸附的污染物的量的增加，吸附速度降低，最终，一旦所有的吸附位点都饱和时需要更换吸附剂。用过的吸附剂应回收再生，这通常需要热能。另一种从水中除去有机污染物的方法是利用光催化剂，理论上它可以是永久使用的。在这种情况下，紫外光通常需要用于激活基于二氧化钛和氧化锌的光催化剂，其具有带隙比~3电子伏特，尽管最近的研究已大力开发可见光催化剂，通过将TiO2和ZnO化学改性或使用其他的低带隙材料。在这项研究中，我们证实了一种新颖的，多功能的，具有很高表面积吸附剂核心和光催化活性的外壳的材料；这种材料同时具有吸附剂和光催化剂优点。这种结构可以在黑暗条件下快速除去有机污染物和在光照条件下使饱和的吸附剂催化再生。2.材料和方案2.1 ZnO/SiO2的制备ZnO薄膜沉积在介孔SiO2（Sigma-Aldrich，Davisil?，636级，孔隙尺寸为15nm，粒径250-500um）是通过原子层沉积（ALD）方法。二乙基锌（DEZ，UPChem）和蒸馏水分别用作锌和氧的前体，。将二乙基锌和H2O的依次到ALD反应器曝光器，形成ZnO膜。对于每个ALD反应周期，在每个前体的曝光60s后分别将DEZ和H2O曝光100s和60s之后。在ZnO沉积时，ALD反应器的基本压力通过充入N2（99.999％）保持在5毫托和每个前体的注射/曝光步骤间进行抽气。DEZ和H2O瓶均保存在室温下，并在ALD工艺中底层保持在130℃2.2吸附剂的特性单独的SiO2和通过ALD法制备的ZnO涂层的SiO2（ZnO/SiO2）的特性用X射线衍射仪（XRD），N2吸附等温线，X射线光电子能谱（XPS），扫描电子显微镜（SEM）和傅里叶变换红外光谱（FT-IR）测得。 XRD图谱获得的铜激发α射线（λ= 0.15406纳米）是使用X射线衍射装置（RIGAKU，ULTIMAⅣ）来评价样品的结晶度。Brunauer–Emmett–Teller（BET）方法和Barett-Joyer-Halenda（BJH）方法分别被用来确定表面积和孔粒度分布。此外，XPS分析进行在配备有双重的Al / Mg的X射线源和一个同心半球分析仪（CHA，PHOIBOS，PHOIBOS-Has 2500，SPECS）的在3.0×10-10托下的超高真空室。一个SEM（JSM-710F，JEOL）制的图像确认了样品的结构。另外，能量色散X射线光谱仪（EDX）被用于ZnO/SiO2的元素映射。每个样品在亚甲基蓝（MB）吸附，光催化再生和再生吸附前后用FT-IR光谱仪进行分析（Optics/vertex 70，BRUKER）。2.3亚甲基蓝吸附实验使用MB模拟有机污染物进行SiO2和ZnO/ SiO2的吸附特性的比较研究。使用紫外-可见光谱仪（3220uv，optizne），在波长范围从400至800 nm的吸收光谱测得MB浓度，MB浓度在665 nm的吸光度处确定，这是MB展示的最大吸收强度。在MB吸附实验之前，所有样品在常压，500℃的下煅烧3小时，为用以除去表面的杂质，提高ZnO薄膜结晶度。我们在黑暗条件加入5毫克每种样品至25ml 初始浓度为12.0mg/L 的MB水溶液。在吸附试验中，该溶液在200r/min转动，使吸附剂颗粒（SiO2和ZnO/ SiO2）在MB溶液中悬浮，以MB浓度的变化作为时间的函数，每隔60分钟进行测量。吸附后的10小时，将各样品从溶液中取出，并放置在25ml的新配置MB的水溶液（12.0mg/L），并再进行吸附实验10小时。通过进行三个连续的吸附实验，共30小时，SiO2和ZnO/ SiO2对MB的吸附达到饱和。2.4光催化再生实验将吸附饱和的样品置于装有蒸馏水的小瓶中，并且用Xe灯（150瓦，LS-150，ABET技术）照射7小