本支援事业活用设备概要(山口大学).docVIP

本支援事業に活用する設備の概要（山口大学） 全体に関するご相談は、本プロジェクト主任の山本教授 TEL 0836-85-9979, e-mail: yamamoto@yamaguchi-u.ac.jp）まで 支援内容 装置等名 機能及び性能 「 B 設備利用」の場合 　の連絡教官 備考 デバイス開発支援 対向ターゲット式スパッタ装置 ボックス回転式6元 反応性エッチング装置 枚葉式、フロン系ガス 電子ビーム励起支援プラズマ装置 エッチング用 アライナ 両面対応型 諸橋信一教授 電界放出型透過電子顕微鏡（ＪＥＯＬ） 最大加速電圧200kV,　格子像0.1nm TEL 0836-85-9850,e-mail: vbl@yamaguchi-u.ac.jp 電界放出走査型電子顕微鏡（日立） 走査型電子顕微鏡（日立） 50000X 走査型プローブ顕微鏡（セイコー電子） 超高真空蒸着装置 5x10-11 Torr プロセス開発支援 電子線描画装置（エリオニクス） LaB6, 最小線幅50nm マスクアライナ（カールズース） 0.7μm L/S, g線，密着露光 ＥＣＲスパッタ装置（NTTアフティ） DC, RF, 円筒型ターゲット ＥＣＲスパッタ装置（島津製作所） DC マグネトロンスパッタ装置（アネルバ） 3元 エッチング装置（エリオニクス） ECR型イオン銃 山本節夫教授