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- 2016-08-28 发布于贵州
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3C和4H-SiC的电子结构和电荷转移
3C和4H-SiC中的电子结构和电荷转移
摘要:我们使用一个局部密度泛函势、原子轨道线性组合(LCAO)法以及BZW程序,研究了3C-SiC和4H-SiC的电子结构。我们计算了能带、带隙、n-型载流子的有效质量以及临界点转变能量。计算出的电子性质与实验结果很好地吻合。对3C-SiC的初始总能量计算,找到了一个平衡晶格常数a=4.348 ?。计算出的电荷转移表明,在4H-SiC和 3C SiC中,每一个硅原子失去约1.4个电子,被一个碳原子获得。
1 引言
由于其优越的电子、机械和化学性能, SiC成为高温、高压设备中最有前途的材料1,2]。大的Si-C键键能使SiC可以抵抗化学侵蚀和辐射,并确保其在高温下的稳定性。SiC可能是具有最多的多晶类型的材料。超过200个SiC的多晶类型已经被确定。由于其有利的电子性能, 3C和4H-SiC多晶吸引了更多的注意力。
在本文中,我们使用从头计算法,研究了3C-SiC和4H-SiC的电子结构和电荷转移。基于密度泛函理论以及局域密度近似(LDA)[3,4]所建立的从头计算法,已经成为了研究半导体、金属、表面或者界面性质[5,6,7,8]的非常强大的工具。在这些计算中,多体电子系统的交互关联作用被表述为电荷密度的函数[3,4,5]。
然而,很多对半导体或者绝缘体的LDA计算都低估带
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