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- 2017-06-07 发布于重庆
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半导体甩干机操作规范
甩干机操作规范
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文件代码: SNS-WI-S2-501 编写人员: 晏小平 审核人员: 批准人员: 保密等级: 分发
部门 总经办 管代 行
政部 人力
资源
部 生产一部 生产二部 生产三部 品检部 研发部 市场
营销部 采购部 财务部 项目部 动力
保障部 文控中心 档案室 分发
范围 分发
份数 1、目的:规范甩干机正确安全操作,保证安全生产。
2、设备操作和使用
1 设备操作说明
A:严禁用紫外线照射液晶屏幕;
B:每次关机后重新启动的时间间隔应大于1分钟;
C:操作中用力要适中,不可用力过大,以免损伤本机屏幕;
3、操作流程图如下:
4、标准操作程序
A:通气源、水源、调节各参数以确保氮气压力 清洗机在80±5psi,甩干机在40±5psi内
B:打开本机电源,系统自动进入设备初始界面
C:进行参数设置
D:将需旋干之晶片装在甩干机专用卡塞中,并置于甩干机工作腔体内,
E:按动启动按钮,开始工作
F:一次工作结束后按返回键客返回编辑状态,按启动按钮,重新开始工作。
5、注意事项
1)设备运行时,腔体内必须放卡塞,否则由于平衡破坏造成设备损坏或精度降低
2)晶片必须均匀放置在卡塞内,尽量保证首尾重力平衡
3)卡塞放置在腔体内时,片子正面应朝向观察窗一侧
4)设备运行中不得试图打开密封门盖,否则会造成人体伤害或机器损坏
5)关机重启后,时间间隔1分
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