3一些具体纳米磁性探究.pptVIP

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三 介绍一些具体纳米磁性材料 磁性液体性能与组成 磁性微球 一维----纳米丝 二维纳米薄膜 四类具有巨磁电阻效应的多层膜结构: 2 自旋阀结构是GMR的实用化设计 3. 具有纳米氧化层的自旋阀结构已是读出磁头的定型产品 读出磁头的发展 20世纪90年代,用感应式读出磁头. 90年代出现AMR读出磁头,硬盘密度可达 1Gb/in2 或 3Gb/in2 . 1995年后, 采用GMR读出磁头,硬盘密度可达 5Gb/in2 或 10Gb/in2 ; 至2000年 ,记录密度达100 Gb/in2 ,超过了原先的极限值40 Gb/in2 . 现用高灵敏度的TMR 读出磁头,记录密度 100 Gb/in2 4. 磁性隧道结是目前的研究热点 其一个重要应用前景是磁性随机存储器 磁记录密度同样决定于记录介质的进步 纵向磁记录介质及其缺陷 垂直磁记录的优越性 垂直磁记录介质结构 Architecture of MRAM Cell on Wafer Solid View 磁性半导体材料是自旋电子学是另一大类 磁性纳米复合物 由非晶态FeSiB退火,通过掺杂Cu和Nb控制晶粒尺度,成为新型的纳米晶软磁材料 纳米晶软磁的变化规律完全不同于常规软磁材料:矫顽力很小,磁导率很高。 软磁纳米晶机制在于 纳米双相复合硬磁 其机理是在硬磁粒子和软磁粒子 界面产生交换弹性耦合 高频薄膜电感 选择性地介绍了几种准零维,一维,二维及纳米三维复合物。 由于技术的提高,电流诱导磁现象等新效应的发现,磁性纳米新材料,新器件的不断出现是必然的。 WWL RWL GND BL MTJ MRAM与现行各存储器的比较(F为特征尺寸) 技术 DRAM FLASH SRAM MRAM 容量密度 256 GB 256 GB 180 MB/cm2 256 GB 速度 150 MHz 150 MHz 913 MHz 500 MHz 单元尺寸 25 F2/bit 2 F2/bit ? 2 F2/bit 联接时间 10 ns 10 ns 1.1 ns 2 ns 写入时间 10 ns 10 ?s 10 ns 擦除时间 1 ns 10 ?s 10 ns 保持时间 2.4 s 10 years ? 无穷 循环使用次数 无穷 105 无穷 无穷 工作电压 V 0.5-0.6 V 5 V 0.6-0.5 V 1 V 开关电压 0.2 V 5 V 50 mV MRAM DRAM 自旋二极管 半导体的小型化极限:对称性破坏导致的能带隙破坏,不再是好的半导体;载流子数不足;特征长度大也不利于小型化。载流子运动的功耗较大。 约100年前进入真空管时代,50年前进入晶体管时代, 现在进入自旋管时代! 由于其材料的选择剪裁,性能调节余地很大,可以在各不同的领域找到合适的材料配方。因此对纳米隐身材料同样应是研究重点,比如,纳米磁性复合颗粒薄膜研究,纳米磁性多层膜的研究。 现仅举其他磁性材料的几个例子: 是非常有实用价值的研究方向 纳米晶粒间的交换耦合作用将有效抵消局部的,无规的各向异性,平均各向异性能密度 : 因为 K1 / N ? , 此交换长度范围内含有晶粒数N Lex /D 3,故有 K1 D/Lex 3/2, 而铁磁交换长度又有关系 Lex A /〈K〉 1/2, 当晶粒尺度D小于Lex时,其无规各向异性可示为 K1 4 D 6 /A 3, 即 与D是六次方的关系,相应磁导率μ随纳米粒子D的减小,也以六次方关系增加。 性能比较 理论表明,纳米级的软磁和硬磁颗粒复合将综合软磁Ms高,硬磁Hc高的优点获得磁能积比现有最好NdFeB高一倍的新 型 纳 米 硬 磁 材 料 磁能积的预期值几乎比现有值高一倍 以直径为D的软磁球被硬磁介质包围做模型 以SmCo/Fe为例,计算了反磁化形核场与粒子直径的关系,表明在粒径小于3纳米时,形核场可高达19.5T. 可以用多种模型作类似计算, 高频,微波纳米磁性材料 由于纳米粒子或薄膜尺度小于电的趋肤厚度,非常有利于在高频应用。除要求磁导率 μ? 高外,如 μ?? 也高,则可为隐身吸波材料,如 μ?? 低,损耗小,则可为高频软磁,电感材料。 * * 零维-纳米磁性液体及磁性微球 一维-磁性纳米丝及其列阵 3 二维-磁性纳米薄膜及其应用 4 纳米晶软磁性材料及产业化 5 双相纳米复合硬磁性原理 6 高频,微波纳米材料的设想 Nanosize: 1---100nm 3D 1D 2D 0D Nano Material 零维

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