微光学元件复制技术简介讲解.ppt

微光学元件的复制技术 表面浮雕衍射光学元件 表面浮雕衍射光学元件（DOE）是利用衍射光学效应来实现其消色差，提高成像质量的一类浮雕光学元件。 光刻胶作为记录介质，实现了高衍射效率，深槽，表面浮雕的微观结构制作。 在热压印的情况下，深槽，高纵横比的立体全息图不能真实地再现；并在模制的紫外线固化液体树脂的情况下，在模具的深槽仍滞留紫外线固化树脂的残基。无法实现高的复制效率。 干性光聚合物紫外成型压模（DPE）技术 1948年在杜邦公司的实验室，第一个实用的干光聚合物由Louis Plambeck 博士发明。 此后各种干光聚合物薄膜对不同的应用进行了商业化。如杜邦公司的产品Dycryl，Lydel，Riston，Cromalin，Cyrel，是全球知名的贸易商标。 杜邦公司为实现对高衍射效率效，深槽、表面浮雕形的微光学元件高复制效率。推出了一种复制高衍射效率、高纵横比的浮雕形光学元件的干性光聚合物SURPHEXTM。 干性光聚合物SURPHEXTM 光聚合物成分在光敏聚合物层的重量比： 干性光聚合物SURPHEXTM 应用于高衍射效率、浮雕形微光学元件的干性聚合物还包括其他成分，如增塑剂，抗氧化剂、荧光增白剂，紫外辐射吸收材料，热稳定剂，氢供体和脱模剂。 干性光聚合物SURPHEXTM 几类干性光聚合物SURPHEXTM说明和