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材料激光隐身技术发展现状 　　【摘 要】激光隐身技术已成为现代隐身技术的重要方面，是军事目标隐身领域的战略，战术与战斗的迫切需要。文章分析了激光隐身的原理，综述了近几年来材料激光隐身的一些最新技术及其机理。 　　【关键词】激光；隐身技术；材料隐身技术 　　0 引言 　　军事激光技术在战场上的广?应用，对战场目标的生存构成了严重威胁。随着激光技术的发展，激光探测、制导器材的性能必定会越来越高，这就给激光隐身技术提出了越来越高的要求。激光隐身技术已成为现代隐身技术的重要方面，是军事目标隐身领域的战略，战术与战斗的迫切需要。 　　1 激光隐身原理 　　激光具有高的方向性、单色性和相干性。因此，激光雷达、测距机、制导系统和指示器常用向目标发射一定波长的激光，通过接受其反射回波来探知目标的距离。激光器探测方程为[1]： 　　PT是发射的激光功率；PR是接收的激光回波功率；ΩT是发射波束的立体角；Ωr是目标散射波束立体角；Ar是目标面积；Ac是接收机有效孔径面积；ρ是目标反射率；τ是单向传输路径透过率；R是激光雷达作用距离。 　　由（1）式知实现激光隐身主要措施是最大限度的降低目标对激光的反射率ρ，减小目标面积Ar，增大目标散射波束立体角Ωr，以有效地降低激光雷达、激光测距机、激光制导武器的作用距离。激光隐身的主要途径就是采用外形技术和材料技术。 　　2 材料隐身技术 　　2.1 光学干涉隐身[2] 　　利用光学干涉原理来设计和研究光谱吸收涂料也是一种重要手段。若在折射率为no的入射介质（若为空气no=1）和折射率为n1的基底介质之间涂上一层厚度为d，折射率为n的薄层材料，当光垂直入射且薄层的光学厚度为nd=（2k+1） （k=0，1，2…） （nonn1）时，从涂层上下表面反射波迭加发生干涉，相互抵消，致使反射光强减弱。此薄层的反射率： 　　因此只要适当选择具有合适折射率的隐身涂料，并严格控制薄层的厚度，就可以制备在某一特定波长反射率很小的涂料，达到特定波长激光隐身的目的。但在实际涂敷时，用于涂层的厚度不易精确掌握，而且吸收波段窄，因此，该方法的实际应用具有一定的技术难度。 　　2.2 掺杂半导体材料隐身[3-4] 　　根据半导体连续光谱理论，可见红外波段光波在半导体中的传播特性与所谓等离子ωρ密切相关[5]。等离子频率及相应的等离子波长由下式表示： 　　其中的m为电子的有效质量，ε0为真空介电常数，N为载流子浓渡，e 为电子电荷，c为真空光速。当入射光的频率ωωρ时，半导体具有电介质的特性，有很高的透过率，很低的反射率和吸收率，当入射光的频率ωωρ时，半导体具有金属的特性，有很高的反射率。而半导体的ωρ主要取决于它的载流子浓度N，因此通过控制半导体掺杂浓度来控制其载流子浓度，进而控制半导体材料的等离子频率ωρ，以实现激光隐身。 　　2.3 光致变色材料隐身 　　光致变色技术是利用某些介质的物理或化学特征，使入射激光波穿透或反射后变成另一种波的光波。 　　以无机化合物为例。研究表明[6]，很多掺稀土和过渡金属离子的晶体，能使入射激光穿透或反射后变成另一波长的光波。其光致变色的物理机制是利用物质受激发射斯托克斯荧光来实现的，物质的荧光是较高能级对较低能级的自发跃迁辐射，发射荧光的波长大于激发光的波长。它有两种情况[7]：一种是原子吸收光子被激发后，从激发态通过发射荧光返回到比基态稍高的某个能级上，如图1所示。激发态是单高能级3，而低能级为1、2，如果激发光使电子发生1→3跃迁，而荧光跃迁发生在3→2能级之间，依据爱因斯坦原子吸收与辐射理论，介质原子吸收激发光子的频率为： ，介质原子自发跃迁发射荧光光子的频率为： 　　另一种情况是所谓碰撞辅助发射，碰撞辅助是指两个很靠近的能级存在有效的碰撞混合，通过碰撞，被激发到高能级后的原子过渡到比激发态稍低的某个能级上，再从这个能级向下跃迁发射荧光，如图2所示。高能级是3、4，低级是1、2，如果激发光频率为 的光子被介质电子吸收从低能级1跃 迁到高能级4后，电子经过碰撞无辐跃迁到能级3，然后由能级3跃迁到低能级2，并发射荧光光子，光子频率为。 　　图1 斯托克斯荧光三能级图 图2 斯托克斯荧光四能级图 　　由此可见，为要实现光致变色隐身所选择的材料必须具有如图1、图2所示的两种能级结构，并且对其入射激光具有强的选择吸收。某些晶体材料由于强弱振子介电耦合原因能够在某一波长，如1.06μm处有强吸收性能[8]。 　　因此，用合适的光致变色材料制成隐身涂料，就有可能实现激光隐身。 　　2.4 强吸收材料隐身[9] 　　采用低反射高吸收的物质对目标进行激光隐身。这类材料的吸收可以分为线性吸收、非线性吸收以及选择性吸收等。线性吸收型主要有金属氧化物、金属有机