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- 2016-10-07 发布于重庆
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《X射线光电子》课件
第二章 近代材料分析仪器 六 X射线光电子能谱仪 一、原理 光电子能量 双通道电子能量分析器 同心半球电子能量分析器 U原子能级图(失去一个电子) Fe清洁表面的XPS谱 MgCdTe膜的XPS谱 化学位移:C-1s线的XPS谱 化学移位-W及W氧化物的XPS(4f-) Fe-2P2/3 (L3)峰的多重劈裂(计算) Cu2P1/2-2P3/2线的XPS谱线(L2-L3) Al-2s线边的等离子激元峰 深度剖析:Si-SiO界面的2P线 CdTe膜的XPS深度剖析 元素深度剖图 Cu合金表面的2P XPS谱 电化学处理Cu合金(L3VV)俄歇谱 WC+Co刀具的TaC涂层 电极表面元素的XPS谱 Ni-P3/2线的XPS(高分辨) 高分辨XPS谱(O-1S Ni-2P线) 可伐(Kovar)合金表面与粘接件表面XPS谱 不同气体焙烧粘接件断口XPS谱 * * 1 2 3 4 CuO Cu2O 深度 3d5/2 TeO2 溅射20min Ta 4f O-1S Ni-2P 未焙烧
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