温度控制系统外翻译.doc

毕业设计(论文)外文资料翻译 学 院： 机械工程学院 专 业： 机械设计制造及其自动化 姓 名： 学 号： 指导老师： 附 件： 1.外文资料翻译译文；2.外文原文。 指导教师评语： 签名： 年 月 日 附件1：外文资料翻译译文 光刻投影镜头多闭环温度控制系统 聂宏飞 1，李平，何。1国家重点实验室，数字制造装备与工艺，华中科技大学武汉430074，中国大学2天华学院，上海师范大学，上海201815，中国2008年27日收稿 2009年1月8日修22日定稿； 2009年2月6日电子版图像质量是光学光刻工具的最重要指标之一，受温度振动和投影镜头（）污染。本地温度传统方法更容易引入振动和污染，多闭环PL内温度，并隔离振动和污染。一个新的远程间接控制（）方，提出了冷却水。嵌入温度单元（）加热器和冷却器冷却水的温度以一种包一个级联结构（CCS）和并行联结构新多控制结构防止大惯性，，一种非线性比例积分（PI）的算法应用，进一步提高收敛速度和控制过程精度。不同的控制回路和算法的对比实验结果表明，精度达到0.006规格多闭环温度控制系统收敛，鲁棒性强该方法已成功地应用于光学光刻工具，制作了（CD）100纳米的，其令人满意。关键词：投影镜头，远程间接温度串级控制结构，并行串控制结构，非线性比例积分（PI）的算法简 介由于集成电路缩小，更小的临界尺寸（CD）要求，生产的控制越来越严格。作为最重要的制造设备，先进的光学光刻工具需要更的微控制环境，严格控制其温度洁净度气压湿度等温度波动，特别是导致图像失真平面图像转变，成为光学光刻工具对图像质量影响的关键因素。投影镜头内的精度要求一个光刻工具0.01℃制造100 nm的模型。另外收敛以降低光刻技术的所有权（） 然而，实现这些目标一个很大的挑战，因为加热器和冷却器要求操作远 否则其性能振动和污染。另一个原因是，PL包含数十个镜头会导致几个小时惯性，所以内部的温度反应相当缓慢，需要。新的结构和控制算法PL内部温度许多温度控制结构著名的经典广泛应用于温度控制单闭环回路控制。当被控对象变得更加复产生分布式干扰串级控制结构（CCS）提出改善精度和收敛。预测前馈控制结构已被证明具有更好的系统性能。另一种有效的方法并行串级控制结构（），开发了具有分布。但上述使用方法，很难实现内部温度高精确度和收敛。在此，提出了一种新的方法，即多环温度控制大致分为四个第一部分解释了一个间接温度控制第二部分多温度控制结构第三部分，一个双双出非线性比例积分（PI）算法在文章的最后一，对比实验验证了系统的有效性，最后，给出了2 远程间接温度控制方法为了防止震动和污染影响，一个间接温度控制控制不同于传统直接加热和冷却控制对象，它冷却水通过长距离管道由输送由水箱温度传感器温度控制器加热器冷却器泵它用于。TCU和光刻工具放置在不同的洁净室，如图理论上，这种方法属于开结构，其他光刻技术，如晶圆标线的阶段标线交接晶圆移交等，。冷却水还用于冷却光刻技术的其他部。回收冷却水节省最大能量是包括冷却和管道储水通过管道和，最后通过合成器管道和器流回储水箱对冷却水循环系统的分析PL内部温度的主要因素干扰多，滞多，惯性。干扰，包括冷却水，，PL和外部。冷却水温度波动是多种因素造成的，其中包括自温度非线性，，以及光刻。冷却水温度波动0.1℃是最差的情形。PL内部热量散失有两个原因，一个是激光穿过透镜辐射和热，另一个是在镜头和内部净化氮外部介质之间热交换，但是，由于其复杂性难以计算主要包括此外，PL复杂结构导致不平衡热交换，而由于上述分析表明，是非常难以实此外，还有并解释如何提高温度控制精度和收敛多闭环控制3.1 串控制结构 分析这个系统的运作质量是很容易。如果PL温度偏离值 嵌入控制器控制算法会计算一个新的冷却水温度设定值）然后，发送新的设定值给温度控制器随后根据温度测量间的偏差PL内部温度期望设定值通过一台机器连续地给出。Ti 控制回路是一个慢控制回路。Tw控制回路是一个快速控制回路，能快速跟随主回路设定值当一个新的发送到，它需要几分钟二次回路此外，还可以减少非线性和图3显示了上述串级控制系统的控制原理图。在下面的图表和方程式，Gs(s)