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- 2016-10-30 发布于湖北
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P型及N型半導體形成P-N結,(Junction) 由於摻雜(Doping)濃度變化會使電子,電洞進行梯度擴散。進一步打破原有電中性,形成空間電荷區(Space Charge Region)及內建電場(由N型指向P型)。當入射光子在空乏區產生電子-電洞時,加上內建電場使電子,電洞漂移(Drift)形成由N型流向P型的光電流(Photo Current),當然必須在合復(Recombination)之前,有效地經由電極流至負載。值得注意:此光電流對P-N接面而言,是反向電壓的電流方向.一般所採用的模型 -IRL=IL-IS(e V/VT -1)入射光不僅在空乏區產生電子-電洞對,電中性區(Quasi-Neutral),也就是N型及P型也能產生電子-電洞對,以擴散電流形式貢獻光電流。這部分是由少數載子形成的擴散電流(多數載子固定在晶格中)。 * GSI廣集/HTTR華通特瑞 2009.10 Carrier Lifetime (Diffusion/Mobility, Generation/Recombination) EL PL PL-Rs (Luminescence Imaging Technology) 光電流與載子 動態偏壓情況下的PN結中性區/空乏區 在以太陽模擬測試系統量測太陽電池片IV曲線時,PN結存在一個動態偏壓情況下工作。 為解決此複雜現象,單一二極體模型須
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