微电子工艺 造技术 复习.docVIP

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  • 2016-11-25 发布于贵州
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微电子工艺 造技术 复习

1.1 硅单晶的化学性质 硅Si,密度为2.4 g/cm3,熔点1420℃,沸点2360℃。 硅分为单晶和多晶硅两种: 单晶硅---〉集成电路等; 多晶硅---〉太阳电池等。 硅单晶和酸在通常条件下不起反应,只与(HF+HNO3)混合酸反应。 在反应中。硝酸起氧化剂作用。而氢氟酸则起络合剂的作用。因此,(HF+HNO3)混合酸可以硅的腐蚀液。 强碱能和单晶硅反应,生成硅酸盐并释放出氢气,如下式: Si+2KOH+H2O=K2SiO3+2H2↑ (1-2) Si+2NH4OH→(NH4)2SiO3+2H2 ↑ (1-3) Si+Ca(OH)2+NaOH=Na2SiO3+CaO+2H2↑ (1-5) 在高温,气态氟化氢与硅进行反应: Si+4HF=SiF4↑+2H2↑ (1-4) (1) 二氧化硅 Si+O2=SiO2+203 kJ (1-6) 无色透明固体,熔点达1713℃。 石英(密度2.65g/cm3):水晶。 地壳(Qiao)二分子一以上是由二氧化硅组成。 熔化的SiO2仅在2590℃时才沸腾。 SiO2不溶于水,除HF外不和其它酸反应, SiO2+4HF =SiF4↑+2H2O SiO2与强碱反应: SiO2+2NaOH=Na2Si

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