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ICdesignreport
《IC设计实践》
报 告
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年 月 日
目 录
一、设计目标 1
二、设计平台 1
三、原理图设计 1
1、电路结构与工作原理 1
2、手工计算电路参数 1
3、仿真、分析与参数调整 2
4、电路参数仿真结果汇总 5
四、版图设计 6
1、版图层次及常用设计规则 6
2、DRC验证与版图修改 7
3、LVS验证与版图修改 7
五、寄生参数提取与后仿真 7
六、小结 7
一、设计目标
通过使用mentor软件设计一个两级运算放大器,并且使其满足以下指标,如表1所示。
表1
二、设计平台
mentor软件及工艺库
三、原理图设计
1、电路结构与工作原理
电路结构如图1所示。
图1 二级运放电路结构
该电路的组成与工作原理:
2、手工计算电路参数
本次实践使用的工艺是华润上华工艺库0.um P衬底N阱双多晶硅三层金属混合信号工艺。
本次设计要求沟道最小尺寸为 um,因此在文件中查找nmos器件模型名称为: ,该模型主要参数:最小沟道长LMIN= , 最小宽WMIN= ,栅氧厚度TOX= ,阈值电压VTH0= ,迁移率系数U0= ;
pmos器件模型名称为: ,主要参数:最小沟道长LMIN= , 最小宽WMIN= ,栅氧厚度TOX= ,阈值电压VTH0= ,迁移率系数U0= ;
模型等级LEVEL=。
计算
绘制电路图生成符号如图所示。
图
3、仿真、分析与参数调整
(1)交流仿真—幅频与相频特性
进行交流仿真之前应该设置仿真环境,Vp接;Vn接其中交流信号频率设为。仿真结束后,先查看*.chi文件,确认管子是否都处于饱和区,若处于非饱和区,应该先调整管子尺寸,直到所有管子都处于饱和区再查看波形。
实验过程中,通过调整管子尺寸,使其满足Av60dB, GBMHz, 相位裕度0度,调整过程如表所示。
调整记录 (V) W1,2 L1,2 W3,4 L3,4 W6 L6 W7 L7 Av(dB) GB(MHz) 相位 1 2 3 4 5 表2
电路图如图所示,其对应仿真结果如图所示。Av=??dB, GB=??MHz, 相位裕度度
图
图
(2)瞬态仿真—压摆率SR
压摆率SR设置仿真环境如下:Vp接;Vn与Vout之间接;瞬态仿真,Vout波形从10%到90%计算SR= V/us 。
电路图如图所示,其对应仿真结果如图所示。
图
图
(3)直流扫描—输入共模范围ICMR
输入共模范围ICMR设置仿真环境如下:Vp接;Vn接,查看Vout和M5漏源电流I5波形,I5进入饱和区为起点,Vout不再随Vin变化为终点,得ICMR= V。
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