14功能薄膜材料.pptVIP

* * * * * * * * 濺射是指荷能粒子(如正離子)轟擊靶材，使靶材表面原子或原子團逸出的現象。逸出的原子在工件表面形成與靶材表面成分相同的薄膜。這種製備薄膜的方法稱為濺射成膜。 濺射和蒸發成膜的相同之處在於，它們都是在真空中進行。但是蒸發制膜是將材料加熱汽化，濺射制膜是用離子轟擊靶材，將其原子打出。 相比較之下，濺射的條件較蒸發要複雜些，沉積參數的控制也要難一些，因此應用不如蒸發普遍。但是，濺射技術也有比蒸發優越的地方，例如不存在膜材的分餾，不需加熱至高溫就能沉積耐熱合金膜，可以通過向真空系統中添加所需要的反應氣體來製備摻雜膜或氧化物膜，還可製備超高純的薄膜等。 * 離子鍍是Mattox在1963年提出來的，當時主要用於解決宇航滾動軸承鍍金的問題，經過40多年的發展，離子鍍已經稱為一種重要的鍍膜技術。 所謂離子鍍是在鍍膜的同時，採用帶能離子轟擊基片表面和膜層的鍍膜技術。離子轟擊的目的在於改善膜層的性能。 離子鍍是鍍膜和離子轟擊改性同時進行的鍍膜過程，無論是蒸鍍還是濺射都可以發展為離子鍍。 離子鍍膜是目前真空鍍膜技術中最新、最先進的表面工程技術之一，它具有以下優點： 入射離子能量高，與基體的結合強度高，膜層緻密，耐久性好，膜層硬度高（氮化鈦膜顯微硬度達Hv2000以上），耐磨性好(用於刀具表面強化，壽