集成电路设计技术与工具Ch05MOS场效应管的特性精选.pptVIP

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  • 2016-11-23 发布于湖北
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集成电路设计技术与工具Ch05MOS场效应管的特性精选.ppt

第五章 MOS 场效应管的特性 5.1 MOS场效应管 5.2 MOS管的阈值电压 5.3 体效应 5.4 MOSFET的温度特性 5.5 MOSFET的噪声 5.6 MOSFET尺寸按比例缩小 5.7 MOS器件的二阶效应 5.1 MOS场效应管 5.1.1 MOS管伏安特性的推导 两个PN结: 1)N型漏极与P型衬底; 2)N型源极与P型衬底。 同双极型晶体管中的PN 结 一样, 在结周围由于载流 子的扩散、漂移达到动态平 衡,而产生了耗尽层。 一个电容器结构: 栅极与栅极下面的区域形成一个电容器,是MOS管的核心。 MOSFET的三个基本几何参数 栅长: L 栅宽: W 氧化层厚度: tox MOSFET的三个基本几何参数 Lmin、 Wmin和 tox 由工艺确定 Lmin: MOS工艺的特征尺寸(feature size) 决定MOSFET的速度和功耗等众多特性 L和W由设计者选定 通常选取L= Lmin,由此,设计者只需选取W W影响MOSFET的速度,决定电路驱动能力和功耗 MOSFET的伏安特性:电容结构 当栅极不加电压或加负电压时,栅极下面的区域保持P型导电类型,漏和源之间等效于

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