10镀膜材料基础知识概述.pptVIP

* 值得指出的是,混合膜在薄膜制备中的应用不仅可以获得任意折射率,而且可以改善膜层的特性. 例如,在ZrO2中掺入百分克分子浓度为46的MgO或21的SiO2后,得到了无定形结构的薄膜,使散射降低. 在TiO2膜中掺入Ta2O5等其他氧化物,可促进氧化,减少薄膜吸收. 在MgF2中掺入12%的CaF2或0.8%的ZnF2.使MgF2膜的应力降低一半. 在ZrO2中掺入6%--30%的Y2O3，可抑制薄膜折射率的非均匀性和提高膜层的聚集密度。 用共溅法制备的TiO2-SiO2和CeO2-SiO2膜，折射率均匀，重复性达±0.01。 此外，气相混合膜法还可用来制备折射率非均匀膜。 * 1.2.6:薄膜材料特性列表 1: B:电阻加热(括号内为蒸发源材料);E:电子束 R:反应蒸发;S:溅射;RS:反应溅射 2: 折射率后括号内数字为波长或基板温度 3: 硬度(H 极硬;FH 硬;M中等;S软;),抗激光损伤(□□□强, □□中, □ 弱) 应力(T 张应力.C 压应力),抗潮性(1优,2中,3差) 材料 熔点/℃ 蒸发温度/℃ 蒸发方法 密度(g/cm3