. 半导体中的杂质缺陷 杂质缺陷 石聪目录 杂质 杂质的分类 杂质在半导体中的分布 杂质原子的影响 缺陷 杂质缺陷的分类及作用 化合物半导体中的杂质缺陷 III-V族化合物中的杂质 两性杂质 单极型半导体和双极型半导体 杂质 杂质:半导体中存在的与本体元素不同的其它元素 杂质来源: (1)有意掺入为了控制半导体的性质 (2)无意掺入原材料工艺上纯度不够,或沾污 杂质在半导体中的分布状况 (1)替位式杂质 (2)间隙式杂质 杂质在半导体中的分布 A为间隙式杂质,位于晶格原子间的间隙位置的杂质.这种原子一般比较小,如离子锂半径为0.068nm,很小,在硅、锗、砷化镓中是间隙式杂质。 B为替位式杂质,取代晶格原子而位于晶格点处的杂质.这种原子的大小一般与被取代的晶格原子大小比较接近,而且要求它们的价电子壳层结构也比较接近。如III,V族元素在硅、锗晶体中是替位式杂质。 杂质原子在Si晶体中的两种存在方式 杂质原子的影响 (1)杂质出现在半导体中时,产生的附加势场使严格的周期性势场遭到破坏: (2)在禁带中引入允许电子具有的能量状态(
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