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例4.应用案例(现场改善)  (一)、背景介绍: 2004年公司扩厂,营业目标50个亿,产能需大幅度提升,4月份曝光工站是产能最大的瓶颈.提升曝光工站产能成为当务之急! (二)、问题描述: What? 1、双面曝光机是单人单机作业,机台闲置率高. 2、作业步骤:清洁基材?清洁底片?基材对位?吸真空?赶气?曝光?下料。 除“清洁基材”以外,其余作业都在机台上完成,耗时2.5min. 3、“基材对位”作业耗时最长,约占1.5min. 4、曝光工站作息时间安排:夜班早餐时间排在白班早餐时间之前,从而占用正常上班时间! (四)、改善措施: How? (四)、改善措施:How? (2) 调整作息时间!将夜班早餐时间排在白班早餐时间之后,不占用正常上班时间,从而挽回25min的上班时间. (四)、改善措施:How? (3) 为了提升“基材对位”作业效率,重新设计底片并增加底片数量, 即在底片空隙处增加贴胶标示孔以便对位时底片与基材粘贴; 由于“基材对位”耗时最长,为配合机台产出需增加底片数量,从而避免沒有底片线外对位人员闲置. (4) 工作场地重新布局,工作台、椅重新设计,改善照明,从而解決 线外作业混乱无序状态. (五)、改善效果: 总之,利用“5W1H”提问工具对