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纳米材料SiO2的制备及应用学 院 化工学院专 业 化学工程与工艺班 级 3年 级 2011 姓 名 周林杰 学 号 301120709121世纪的纳米科学技术正在成为推动世界各国经济发展的主要驱动力之一。纳米SiO2作为目前工业化产量最大的无机非金属材料，广泛应用于信息、环保、生物医学、制造、国防等领域。纳米SiO2研究已经进行多年，前人总结了很多关于制备及应用方面的经验，但大规模制备中如何做到控制纳米SiO2的尺寸和形貌，使其均匀化、分散化、稳定化，尤其是制备出具有均匀尺寸和规则形貌的单分散纳米SiO2，仍是当前研究的热点和难点。一.纳米SiO2的制备方法目前纳米SiO2的制备方法主要分为物理法和化学法。物理法一般是指机械粉碎法，利用超级气流粉碎机或高能球磨机等将SiO2的聚集体粉碎，产品粒度一般能达到 1～5μm。物理法工艺简单，但粉碎设备一般需要较大动力，能耗大，并且产品易受污染易带入杂质，粉料特性难以控制，制粉效率低且粒径分布较宽。与物理法相比较，化学法可制得纯净且粒径分布均匀的超细 SiO2颗粒，其主要包括气相沉积法、溶胶凝胶法、沉淀法、微乳液法。本研究主要介绍化学制备法。1.1气相沉淀法气相沉淀法是指直接利用气体或将物质变成气体，使之在气体状态下发生物理、化学变化，在冷却过程中凝聚长大形成纳米颗粒。其原理为：以硅烷卤化物为原料，在氢氧焰中高温水解(1200～1