武汉大学材料制备4纳米材料的制备.ppt

（xrd） （3）可能的应用领域 传感器 场发射显示器 纳米高密度磁记录 再 见 金刚石、石墨、C60和纳米碳管 2、制备 碳蒸发法 电弧法、激光烧蚀法等 催化热解法 含碳气体、有机金属化合物催化热解等 固相热解法 本体聚合物在空气中热解等 电化学法 炭电极熔融盐电解等 含碳无机物转化法 碳化硅表面热分解等 低压烃火焰法 扩散火焰法 环芳构化形成筒状齐聚物法 电弧法、激光烧蚀法合成的纳米碳管已商品化 合成碳纳米管的方法： 1) 石墨电弧法 是最早的、最典型的碳纳米管合成方法。 基本原理：电弧室充惰性气体保护，两石墨棒电极靠近，拉起电弧，再拉开，以保持电弧稳定。放电过程中阳极温度相对阴极较高，所以阳极石墨棒不断被消耗，同时在石墨阴极上沉积出含有碳纳米管的产物。 影响因素：载气类型、气压、电弧的电压、电流、电极间距等。 理想的工艺条件：氦气为载气，气压 60—50Pa，电流60A～100A，电压19V～25 V，电极间距1 mm～4mm，产率50％。在石墨棒中掺杂金属Fe、Co、Ni催化剂，改善碳纳米管产量和质量。Iijima等生产出了半径约1 nm的单层碳管。 优 点：4 000K的高温碳纳米管最大程度地石墨化，管缺陷少，比较能反映碳纳米管的真正性能。 缺 点：电弧放电剧烈，难以控制进程和产物，合成物中有碳纳米颗粒、无定形炭或 石墨碎片等杂质，碳管和杂质 融合在一起，很难分离。 2) 浮动催化法（即碳氢化合物催化分解法，又称CVD法） 是目前使用最多和最有希望实现批量生产的工艺之一。 基本原理：将有机气体(如乙炔、乙烯等)混以一定比例的氮气作为压制气体，通入事先除去氧的石英管中，在一定的温度下，在催化剂表面裂解形成碳源，碳源通过催化剂扩散，在催化剂后表面长出碳纳米管，同时推着小的催化剂颗粒前移。直到催化剂颗粒全部被石墨层包覆，碳纳米管生长结束。 影响因素：催化剂的选择，反应温度、时间，气流量等。碳纳米管的直径的大小依赖于催化剂颗粒的直径。 实验理想参数：温度为650℃～700’C，气体流量＝10ml／min、N2＝600ml／min，反应时间60min～70min，产率高达90％以上。 优点：有反应过程易于控制，设备简单，原料成本低，可大规模生产，产率高等优点。 缺点：反应温度低，碳纳米管层数多，石墨化程度较差，存在较多的结晶缺陷，对碳纳米管的力学性能及物理化学性能会有不良的影响。 3) 激光蒸汽法 在氩气气流中，用脉冲激光蒸发含有Fe／Ni(或Co／Ni)的碳靶方法制备出直径分布范围在0.81—1.51nm的单壁碳纳米管。该法制备的碳纳米管纯度达70~90％，基本不需要纯化，但其设备复杂、能耗大、投资成本高。 （4）燃烧火焰法 利用液体（乙醇、甲醇等）、气体（乙炔、乙烯、甲烷等）和固体（煤炭、木炭）等产生火焰分解其碳-氢化合物获得游历碳原子，为合成碳纳米管提供碳源；然后将基板材料做适当处理，最后将基板的一面向下，面向火焰放入火焰中，燃烧一段时间后取出。基板上的棕褐（黑）色既是碳纳米管或碳纳米纤维。产生碳纳米管或碳纳米纤维的过程主要决定于基板的性质。基板的选择和处理、燃料的选择等是本方法的关键技术。 与制备碳纳米管的常规方法电弧法，激光蒸汽法和碳氢化合物的催化分解法（CVD）等相比较，燃烧火焰法制备碳纳米管的主要优点有： ① 合成过程在大气中进行，无需真空（电弧法）、保护气氛（CVD法）； ② 无需专门的外加生长促进剂或添加纳米颗粒催化剂； ③ 可以在大的表面上合成，特别适合于在一个平面上形成一层均匀的碳纳米管或碳纳米纤维薄膜； ④ 火焰即提供了反应温度，又提供了碳源，反应和合成过程容易控制； ⑤ 不需要太长的合成时间，一般10分钟左右； ⑥ 可以非常自由的选择基板材料，并且样品制备简单； ⑦ 燃料容易获得、储运方便、便宜； ⑧ 成本较低，对环境的污染也非常小。 ⑨ 通过多火焰或大火焰，可以实现大批量合成。 火焰法： 　首先将基板进行机械磨光和抛光，之后用硝酸或盐酸进行化学腐蚀，然后将硝酸镍，硫酸镍，氯化镍等镍盐金属盐的无水乙醇溶液涂覆在基板表面，晾干后，置于乙醇火焰中．金属盐在火焰的高温中分解成极细小的金属氧化物颗粒，催化合成一维碳纳米管材料． 　 　燃烧火焰中合成的典型的碳纳米SEM 和 TEM 形貌。从中可以看出其主要特征有:1）其中还有螺旋碳纳米管呈团絮状缠绕在一起状组织;2）除了一般的碳纳米管以外 ,还有所谓的竹节状碳纳米管;3）管径在 2０mm～60 nm 之间 ,长度较长 ,有数十微米;4）