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- 2016-12-05 发布于湖北
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* * * 纳米晶金属的应变硬化机制 汇报人:虢婷 目前很多实验结果都证明NC中有低的应变硬化,有些材料中更是观察到了大的应变硬化现象,这与我们之前的理论认识是矛盾的。 那么,这种现象是怎么形成的呢? 一. L-C lock MD模拟表明NC位错也许会在晶界发射和消失而塞积,从而为小应变硬化提供了依据。 NC中有位错塞积的证据: 1. 20nm的晶粒中已经观察到位错; 2.NC金属在拉伸应力作用下展现出早期颈缩。 是不是传统的拉伸试验使得NC金属难以 展现应变硬化? 它会不会发展成更大的应变? 如果存在,在大应变下的应变硬化是不是位错塞积导致的? 在低温下以一种承压方式滚轧电沉积法获得~20nmNCNi。 图一 图3 图一 假定位错塞积是应变硬化的主要原因,那是什么引起位错塞积呢? 而Lee等人也通过原位TEM观察发现了纳米晶Ni中L-C位错锁的形成及其与孪生界面相互作用 图4 L-C位错的形成:两个领先不全位错的反应层错的参与 再假定L-C位错锁在NC Ni的应变硬化中起着关键作用。试验和MD也验证了这一假设。 孪生位错的互作用 不均匀的晶粒尺寸分布(电沉积法) 织构演变 (X射线大于0.1的滚轧应变)
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