第八章光刻技术方案.ppt

微电子技术工艺原理 天津大学电子信息工程学院 电子科学与技术系 Xie_sheng06@tju.edu.cn 第26教学楼D区431室 Contents How Does Fab Make Money How Does a Fab Make (Loss) Money 一、超净间 1、曝光设备 光刻胶的参数 电子束光刻 扫描方式： 电子抗蚀剂 极紫外光刻 (EUV) ——10~14nm X射线光刻——1nm 离子束光刻 基本参数： 分辨率(resolution) 焦深(depth of focus) 套刻精度(alignment accuracy) 产率(throughput) …… 数值孔径：收集衍射光的能力。n为折射率 分辨率 k1=0.6-0.8 提高分辨率： NA?，??，k1? NA?，焦深? ? 焦深 70/…… VUV 157 F2 (激光) 100/65…32nm 193DUV 193 ArF (激光) 0.25/0.18mm DUV 248 KrF(激光) 0.5/0.35mm i线 365 汞灯 0.5mm g线 436 汞灯 技术节点 术语 波长?(nm) 光源 Using light source with shorter l 分辨率增强方法 高压汞灯光谱图 248 nm 157 nm 13.5 nm 193 n