真空磁控溅射镀膜设备用户手册.docVIP

真空磁控溅射镀膜控制系统 用 户 手 册  目 录 1.系统简述 4 1.1真空系统 4 1.2 传送系统 4 1.3 加热系统 4 1.4 溅射电源 4 1.5 冷却水 4 1.6 工艺气路 5 2.系统供电 5 2.1 柜体通电前检查 5 2.2 现场设备通电前检查 5 2.3 电源送电顺序 5 2.3.1 PLC控制柜 5 2.3.2 电加热柜 6 2.3.3 泵组柜 6 3.PLC运行程序 6 3.1 环境模式 7 3.2 工作模式 7 3.3 安全连锁 9 3.4 系统报警 10 4.上位机软件操作 12 4.1 上位机画面 12 4.1.1 介绍 12 4.1.1.1 图例 12 4.1.2总貌 14 4.1.3 真空 15 4.1.4 传动 17 4.1.5加热 19 4.1.6 参数设定 21 4.1.7 溅射电源 23 4.1.8 控制模式 25 4.1.9 分子泵使能操作 27 4.1.10 历史报警 28 4.1.11 框架信息 29 4.1.12运行注意事项 30 4.1.12.1 开机注意事项 30 4.1.12.1 停机注意事项 31 5. 工程维护 31 5.1 传输设置 31 5.1.1 传输工程文件 32 5.2 WINGP运行 33 6.变量地址表 34  1.系统简述 TFT系统需要实现玻璃在真空环境下自动化的连续镀膜，生产线布置为“回”字型矩形结构，生产线划分为4个区，位于生产线左右侧的上片区和下片区，位于上下片平台间的工艺区和回传区，其中呈”-”方向移动的区域为工艺区，呈”-“方向移动的区域为回送区。TFT控制系统实现对生产过程中的真空、加热、传动、电源、冷却水、工业气体在镀膜过程中的连续控制。 1.1真空系统 真空系统设备集中于真空室区域，由抽气设备（机械泵、罗茨泵、分子泵）检测设备（PG表，CG表）、安全阀（分子泵前蝶阀、机械泵罗茨泵间自吸阀、管道阀和破空阀）；通过机械泵 -罗茨泵-分子泵接力抽气，将腔室内压力由大气变为真空，并在生产过程中保持适合生产的真空环境； 1.2 传送系统 传送系统共24台操作电机，上下片平台各4台，工艺区11台，回传区5台传动电机，除上下片平台各有2台电机可实现双向传动外，其余电机均为单向传动；其中除M3 –M9 可以通过端子通断和模拟量信号协同控制电机转速外，其余电机的传动速度由端子通断直接控制； 1.3 加热系统 加热系统共66台，在连续生产过程中，逐段加热工艺区腔室内的温度，以确保在玻璃在镀膜过程中的环境温度，加热系统进行PID运算，通过固态继电器的电压脉冲控制加热器的加热频率； 1.4 溅射电源 在工艺区有4个溅射室，室内配置MF中频溅射电源和DC直流溅射电源，通过电源产生的高电压电离气体分子； 1.5 冷却水 机械泵、分子泵、溅射电源冷却管路安装有压力检测设备，通过水流开关检测冷却水压力是否符合设备冷却的要求； 1.6 工艺气路 气路由供气管道，流量计和切断阀组成； 2.系统供电 2.1 柜体通电前检查 柜间连接线校核； 所有断路器，熔断器处于断开状态； 检查泵组柜，电加热柜一次主排、母排绝缘和是否短路； 检查泵组柜，PLC柜，电加热柜，电源柜是否短路； 2.2 现场设备通电前检查 电缆接线的校核； 接线的电源电压等级是否与设备匹配； 机械泵，罗茨泵，传动电机通电前进行三相对地绝缘（电阻0.5M欧）测试； 其它现场设备是否有短路现象，例如分子泵，阀门等； 控制回路的功能测试； 2.3 电源送电顺序 2.3.1 PLC控制柜 传动控制柜PLC模块电源供电(220V) QF51-SB54（面板）-QF81; PLC控制柜及PLC模块触摸屏供电(220V) QF51-SB54（面板）-QF82; 检修插座供电(220V) QF51-SB54（面板）-QF86; 传动控制柜I/O模块供电(24V) QF51-SB54-QF71-QF74; PLC控制柜I/O模块供电(24V) QF51-SB54-QF71-QF71.1; 流量计供电(±15V) QF51-SB54-QF61; 温度控制器供电(24V) QF51-SB54-QF64-QF64.1; 中频/直流控制电源(24V) QF51-SB54-QF64-QF66; 阀门，机械泵气镇，油镇供电(24V) QF51-SB54-QF84-QF84.1; 光电开关及真空计电源(24V) QF51-SB54-QF84-QF85; 传动电机供电