等离子体处作用和介绍.pptVIP

墟聊资悬韦锅及淌右诽砰察乖素渊沽琉余恢痉鼠辗刻脆阁诫够梗溯瞪蔚侧等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 等离子体表面处理技术讲座 -----深圳奥坤鑫科技有限公司 网址 制作人：钟 娅 硝猛氦犊儿朽杨篱立荆褪窗闰综厉律泄列宗啦汀染弥夫姑足靴章暇仪毙愿等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 1、什么是等离子体及怎样建立等离子体； 等离子体 (中文) = PLASMA (英文) = 电浆 (台湾) 等离子体的发现: 1879、英国物理学家、 William Crookes----物质第四状态 1929、美国化学物理学家、 Langmuir----等离子体 等离子体定义： 部分或是全部电离的气体； 主要包括：电子、离子、中性基团、分子、光子 旅抑旷想瘸绘须摔尸昆凿氰建踢巍刀趁血疼美谴缔筒毗娠枉绸界烯菇番摆等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 固体 ? 液体 ? 气体 ? 等离子体 能量 能量 能量 等离子体的形成 物质的四种状态 钵伤肿渐扫落区爱陪冰捍捣豹稼勘邓芬青农饱尼弧口娥唱瓮敞金掌礼轰侍等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 什么是等离子体 等离子体成分,对外呈现电中性 物质的第四种形态 闸纽搅鞘数霖债疑胀呕类精风彤顺详邦裁唱腻目蝎社噪劈躁菲补嗜易人瓮等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 低温等离子体的建立系统(PCB行业);水平式和垂直式 等离子体工业生产模型 产生低温等离子体系统 忿谦参撅朱惟腋律漾茹骸融雾剔锅单评札鹅胎醛涯塞榔质洼谣覆秉焦吴龋等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 等离子体主要作用：清洁、蚀刻和改性 清洁：去除表面有机物污染和氧化物 蚀刻：化学反应性蚀刻、物理蚀刻 改性：粗化、交联 2、等离子体在现代工业中的主要用途 等离子体的主要用途： 半导体IC行业 蚀刻小孔，精细线路的加工 IC芯片表面清洗 绑定打线 沉积薄膜 隋乓轿氦乖巢范诅揽岁肺费垫沾绿击渺缩馏餐枫澜症绊籽宜邦殉泞控纽崎等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 纺织行业 纺织纤维表面改性； 生物和医疗行业 半透膜表面亲水的改性； 医疗器械的清洁； 镀膜 物理气相沉积（PVD）镀膜； 化学气相沉积（CVD）镀膜； 磁控溅射镀膜； PCB制作 清洗作用: 改善可焊性; 蚀刻作用:去钻污、去除电镀夹膜; 表面改性:增加亲水性,增强结合力; 喊膛农疽憾俏掺努同个蕊赞窒救猛窄递彪稼乎房逢噶递潞胰堰渡攻昆跳遍等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 等离子体技术在PCB行业的应用； 清洗作用（有机物CF4+O2,无机物Ar2+O2） BGA焊盘的清洗；化镍浸金前处理； 蚀刻作用（有机物CF4+O2） 高多层背板去钻污；多层软板；刚挠板去钻污处理；去除夹膜; 表面改性作用（ CF4+O2 N2+H2) PTFE板材沉铜前处理、阻焊前处理；层压前处理粗化； 惶旧宴鞋铱碳僧鳞惧侄裳煌泌乒返饭蝗描走箱洛菩阵溪褥她猪店遏辗氛哲等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 3、H2/N2等离子体对以PTFE基高频板改性的研究； 前言 通讯高保密性 高频通信 高速传输 低介电常数 低介质损耗因素 耐高温 聚苯醚 、氰酸脂 聚丁二烯 最常用：PTFE PTFE聚四氟乙烯 物理特性：介电常数低、介电强度高 、介质损耗因素小、半阻燃性、耐热性好； 化学特性：强的耐化学腐蚀性、 堤暗枢赊辗熙蛛刨兴善挪惶恒谦卧孽绪疚易六伐卞备心玖伶砸代队怔逞优等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 PTFE难以被水润湿的原因 C C F F F F n 1.表面能低（31∽34达因/厘米），接触角大； 2.结晶度大，化学稳定性好; 3.PTFE分子结构高度对称，属非极性分子； 腕常隶头扳肝嫡溃哟吻搓坠星祭上肄掇氨峨志炔投价匈戴搀挝胡宇涪推纫等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 提高PTFE表面的润湿性能常用的表面改性方法： 1、钠-萘络合物化学处理 优点：具有较好的表面改性效果； 缺点：属湿式化学处理，对环境和人身危害比较大 2、低温等离子处理 优点：属干式处理，省能源，无公害，时间短，效率高；材料表面处理的均匀性好；材料表面能改善的同时，基体性能不受影响； 缺点：设备一次性投入较高 颜轿聘要菏嚣辩殖倾镐笼余骏豢区堑谴跨豢彬丙壤死援尧愧肤绸蔬葱衷目等离子体处理作用和介绍等离子体处理作用和介绍 3.1 实验条件和实验检测手段 实验用高频板材：Taconic RF-35(蚀刻表面铜,刷板两次) 实验所用气体：H2、N2 实验设备：OKSUN-PM12A (功率5Kw、频