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- 2016-12-14 发布于辽宁
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几种膜系特点及应用研究
摘要
薄膜是一种物质形态,它所使用的膜材料非常广泛,可以是单质元素或化合物,也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样,可以是单晶态的,多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛,尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。
镀膜方法可以分为气相生成法,氧化法,离子注入法,扩散法,电镀法,涂布法,液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法,化学气相沉积法和放电聚合法等。
真空蒸发,溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法,是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以,真空技术是薄膜制作技术的基础,获得并保持所需的真空环境,是镀膜的必要条件。真空系统的种类繁多。在实际工作中,必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括:获得真空的设备(真空泵),待抽空的容器(真空室),测量真空的器具(真空计)以及必要的管道,阀门和其它附属设备。
近几年来随着国内高世代液晶面板的兴起,对于上游关键材料如光学膜的需求也大幅增加。光学膜在液晶面板中应用量较大,约占到液晶面板成本的10%左右,以一条8代线总投资200亿元计算,其光学膜的需求就达到20亿元。随着中国电子工业的不断发展,越来越多的世界电子巨头在中国投资设厂,随着世界电子生产基地向中国的转移,目前中国已经成为全球最大
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