蓝宝石PSS工艺流程幻灯片.pptVIP

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2016-12-14 发布于山西
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蓝宝石PSS工艺流程幻灯片.ppt

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1. Company Overview Aug 2007 HQ : 526 Chobu-Ri, Mohyun-Myeon, Yong-In, Korea Factory :() Address Semiconductor Technology Development, and Services Lim, Heechoul HQ Tel: +82 31 339 2970; Fax: +82 31 339 2972 Factory Tel : +82 62 605 9566 PSS and LED Production Equipment firstar0802@ Type of Business Establishment CEO Major Products Contact E-mail Firstar Photon Co., Ltd Company Name * Homepage : MOCVD(2”x 6ea) 2. Factory* 3. ProductsPSS * Typical Size : 2”, 3”, 4” PSS(Patterned Sapphire Substrate) for Epi Growth 2inch, 3inch, 4 inch Available Wafer Size Equipment Stepper, Track system, ICP-RIE, Wet bath 5,000 pcs/month Capacity Height : 1.3μm ~ 1.9μm Bottom : 1.8 μm ~ 3.8 μm Pattern Size 430μm ~ 900μm Available Wafer Thick Within : ≤ 2%, W to W : ≤ 3% Uniformity China, Japan, USA Current Sales 4. PSS production overview * 5. Process of PSS production * Sapphire Substrate Sapphire Substrate Photo resist Thickness Reticle UV light Sapphire Substrate Plasma Etching Develop Photo Exposure 1. Photo-resist coating 2. Stepping Exposure 3. Developing exposed patterns 4. Dry etching by ICP-RIE 6. PSS Equipments * Stepper system Track system ICP-RIE Wet bath Measurement 7. PSS Pattern List * * Product Code Patterns [μm] Etching Depth [μm] Bottom size[μm] SEM Image D0B 4 x 1.2 2.1 3.87 C0D 3 x 2 2.0 3.3 B5C 2.5 x 1.5 1.9 3.0 B8B 2.8 x 1.2 1.88 3.26 B0A 2 x 1 1.56 2.42 A5A 1.5 x 1 1.33 1.84 8. PSS Pattern ImageProduct D0B (4x1 pattern) * 8. PSS Pattern ImageProduct B5C (2.5 x 1.5 pattern) * 8. PSS Pattern ImageProduct B8B (2.8 x 1.2 pattern) * 8. PSS Pattern ImageProduct B0A (2 x 1 pattern) * 8. PSS Pattern ImageProduct A5A (1.5 x 1 pattern) * 9. Inspection StandardA, B, C grade * Grade Round Flat zone Scratch Comment A Edge~2mm : don’t care Edge~4mm : don’t care No scratch B Edge~2mm : don’t care Edge~4mm : don’t care 1 point scratch Length ≤ 2mm C Edge~2mm : don’t care Edge~4mm : don’t care Over 1 point scratch Length 2mm Patt