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- 2016-12-16 发布于天津
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CO2与SiO2的比较 * * 硅在地壳里的含量仅次于氧而居第二位,硅 只以化合态形式存在于自然界。(硅酸盐和二 氧化硅) 一、硅的存在 二、物理性质 硅是灰黑色有金属光泽的固体,硬而脆,熔、沸点较高,是重要的半导体材料 三、化学性质: 常温下: 加热条件下: 与F2 与HF 与强碱(如NaOH) Si + 2F2 ==SiF4 Si + 4HF2==SiF4 + 2H2 Si + 2NaOH + H2O == Na2SiO3 +2H2 ↑ 与氧气 与氢气 与氯气 Si + 2H2 ===SiH4 高温 Si + O2 ===SiO2 点燃 Si + 2Cl2 ===SiCl4 高温 在常温下,硅的化学性质不活泼, (1)在工业上,用碳在高温下还原二氧化硅的方 法制得粗硅。 SiO2 +2C Si(粗硅)+2CO↑ 高温 (2)与氯反应: Si +2Cl2 = SiCl4 (温度为400~500℃) (3)生成的SiCl4液体通过精馏,除去其中的硼、砷 等杂质。然后用氢气还原: SiCl4 +2H2 Si + 4HCl 高温 四、硅的制备 注:SiCl4沸点为57.6℃ 二氧化硅: ①酸性氧化物的通性(硅酸和原硅酸共同的酸酐) a. S
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